一种颗粒度检测系统技术方案

本申请提供一种颗粒度检测系统，涉及缺陷检测技术领域。该颗粒度检测系统包括：载台、盒体、设置在盒体上的第一光源、第一镜组、反射动镜、第二光源、第二镜组和相机；反射动镜具有第一工作角度和第二工作角度，第一光源用于在反射动镜处于第一工作角度时向待检测件的第一表面出射第一光束，第一光束经第一镜组和第一表面反射后射向反射动镜，并经反射动镜反射后进入相机；第二光源用于在反射动镜处于第二工作角度时向待检测件的第二表面出射第二光束，第二光束经第二镜组和第二表面反射后射向反射动镜，并经反射动镜反射后进入相机。该颗粒度检测系统在加入了反射动镜后，能够简化检测光路，降低成本，同时也不会增加检测过程的总体耗时。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及缺陷检测，具体而言，涉及一种颗粒度检测系统。

技术介绍

1、随着集成电路技术的发展，光刻工艺作为集成电路的核心关键工艺，是半导体产业最前沿技术之一。掩模版作为光刻工艺中不可或缺的重要载体，其表面承载芯片设计电路图形，经由光刻/刻蚀工艺转移到硅片上。所以，掩模版的表面质量将直接影响到硅片上图形的质量，进而影响最终芯片功能及性能，以及半导体生产良率。

2、掩膜版在多次使用后，会因为设计不规范、人员操作不合规等问题沾染颗粒或者被刮伤，因此，在光刻工艺开始前对掩膜版进行颗粒度检测就显得尤为重要。这项检测不仅能够及时发现掩膜版表面的颗粒或划痕，还能有效预防这些问题对后续工艺过程的影响。然而，现有的颗粒度检测系统需要使用两个相机分别拍摄掩膜版的上表面和下表面，其检测光路较为复杂，且成本较高。

技术实现思路

1、本申请的目的在于，针对上述现有技术中的不足，提供一种颗粒度检测系统，其能够简化检测光路，降低成本，同时也不会增加检测过程的总体耗时。

2、为实现上述目的，本申请实施例采用的技术方案本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种颗粒度检测系统，其特征在于，包括：载台、盒体、设置在所述盒体上的第一光源、第一镜组、反射动镜、第二光源、第二镜组和相机，所述载台用于承载待检测件，并带动所述待检测件进出所述盒体，所述载台能够将所述待检测件的第一表面和与所述第一表面相对的第二表面露出；

2.如权利要求1所述的颗粒度检测系统，其特征在于，还包括载台电机和反射动镜电机，所述载台电机用于驱动所述载台沿平行于所述待检测件的第一表面的方向移动，以使所述待检测件在初始位和停止位之间移动，所述反射动镜电机用于在所述待检测件处于所述停止位时，驱动所述反射动镜由所述第一工作角度切换至所述第二工作角度。

3.如...

【技术特征摘要】

1.一种颗粒度检测系统，其特征在于，包括：载台、盒体、设置在所述盒体上的第一光源、第一镜组、反射动镜、第二光源、第二镜组和相机，所述载台用于承载待检测件，并带动所述待检测件进出所述盒体，所述载台能够将所述待检测件的第一表面和与所述第一表面相对的第二表面露出；

2.如权利要求1所述的颗粒度检测系统，其特征在于，还包括载台电机和反射动镜电机，所述载台电机用于驱动所述载台沿平行于所述待检测件的第一表面的方向移动，以使所述待检测件在初始位和停止位之间移动，所述反射动镜电机用于在所述待检测件处于所述停止位时，驱动所述反射动镜由所述第一工作角度切换至所述第二工作角度。

3.如权利要求2所述的颗粒度检测系统，其特征在于，所述相机与所述载台电机的编码器电连接，所述相机能够获取所述编码器发出的编码器信号并在接收到预设数量的编码器信号时，进行一次拍摄。

4.如权利要求2所述的颗粒度检测系统，其特征在于，还包括与所述相机电连接的进板传感器和出板传感器，所述进板传感器用于在所述待检测件由所述初始位向所述停止位运动时检测所述待检测件的位置，所述出板传感器用于在所述待检测件由所述停止位向所述初始位运动时检测所述待检测件的位置；

5.如权利要求4所述的颗粒度检测系统，其特征在于，还包括控制组件，所述反射动镜电机和所述进板传感器分别与所述控制组件电连接，所述待检测件运动至所述停止位时，所述进板传感器向所述控制组件发送所述第二进板位置信号，所述控制组件在接收到所述第二进板位置信号后控制所述反射动镜电机动作，驱动所述反射动镜由所述第一工作角度切换至所述第二工作角度。

【专利技术属性】
技术研发人员：张琪，符友银，靳雪仪，徐静静，
申请(专利权)人：上海新毅东半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：