【技术实现步骤摘要】
本技术涉及蚀刻液回收，特别涉及一种便于清理蚀刻液的半导体蚀刻设备。
技术介绍
1、是一种用于在金属或其他材料表面上进行化学蚀刻的液体。蚀刻液通常含有腐蚀性物质，如酸，用于去除金属表面的一层薄膜，从而在材料上刻出所需的图案或文字。蚀刻液的选择取决于要蚀刻的材料和所需的蚀刻深度，在工业生产中，蚀刻液广泛用于金属零件的加工和印刷电路板的制造，现有技术中，对于蚀刻液的回收方式是在蚀刻机的底部的回收腔道中增设过滤网，在蚀刻液流动的过程中对其进行过滤，过滤完成后再将过滤网取出进行清理，此种方式虽然可以对蚀刻液进行回收处理，但过滤网需频繁的进行取放，导致清理工序较为繁琐，因此，本申请提供了一种便于清理蚀刻液的半导体蚀刻设备来满足需求。
技术实现思路
1、本技术要解决的技术问题是提供一种便于清理蚀刻液的半导体蚀刻设备以解决现有过滤网需频繁的进行取放，导致清理工序较为繁琐的问题。
2、为解决上述技术问题，本技术提供如下技术方案：
3、一种便于清理蚀刻液的半导体蚀刻设备，包括蚀刻机主体...
【技术保护点】
1.一种便于清理蚀刻液的半导体蚀刻设备，其特征在于，包括蚀刻机主体、滤网、导流台以及回流管，所述蚀刻机主体的下方内部水平安装滤网，所述滤网设置在回流管的下方；
2.根据权利要求1所述的便于清理蚀刻液的半导体蚀刻设备，其特征在于，所述回流管与蚀刻机主体台面上的蚀刻液出液口连接，所述回流管与滤网对应。
3.根据权利要求1所述的便于清理蚀刻液的半导体蚀刻设备，其特征在于，所述推动板的侧壁上固定连接有电动伸缩杆，所述电动伸缩杆水平设置，远离伸缩板的一端固定连接蚀刻机主体的内壁。
4.根据权利要求1所述的便于清理蚀刻液的半导体蚀刻设备，其特征...
【技术特征摘要】
1.一种便于清理蚀刻液的半导体蚀刻设备，其特征在于，包括蚀刻机主体、滤网、导流台以及回流管，所述蚀刻机主体的下方内部水平安装滤网，所述滤网设置在回流管的下方；
2.根据权利要求1所述的便于清理蚀刻液的半导体蚀刻设备，其特征在于，所述回流管与蚀刻机主体台面上的蚀刻液出液口连接，所述回流管与滤网对应。
3.根据权利要求1所述的便于清理蚀刻液的半导体蚀刻设备，其特征在于，所述推动板的侧壁上固定连接有电动伸缩杆，所述电动伸缩杆水平设置，远离伸缩板的一端固定连接蚀刻机主体的内壁。
4.根据权利要求1所述的便于清理蚀刻液的半导体蚀刻设备，其特征在于，所述推动板的底部为开口设置，且伸缩板沿推动板滑入，滑入的一端固定连接有第二弹簧。
5.根据权利要求4所述的便于清理蚀刻液的半导体蚀刻设备，其特征在于，所述第二弹簧竖向设置，且远离伸缩板的一端固定连接推动板的内...
【专利技术属性】
技术研发人员：李华，
申请(专利权)人：兴芯社重庆电子设备有限公司，
类型：新型
国别省市：
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