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本技术提供一种便于清理蚀刻液的半导体蚀刻设备，属于蚀刻液回收技术领域。包括蚀刻机主体、滤网、导流台以及回流管，蚀刻机主体的下方内部水平安装滤网，滤网设置在回流管的下方；滤网的两侧上方分别设有推动板、阻隔板，推动板与阻隔板彼此间隔对称分布，推...
该专利属于兴芯社（重庆）电子设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过兴芯社（重庆）电子设备有限公司授权不得商用。

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