一种硅片正面粗洗模组制造技术

本技术属于硅片清洗技术领域，具体涉及一种硅片正面粗洗模组，本装置包括：一种硅片正面粗洗模组，包括：一对镜像设置的支撑架，所述支撑架上转动设置有主动辊和被动辊，所述主动辊和所述被动辊上支撑有传送带；所述支撑架的顶部设置有清洁组件，所述清洁组件包括若干转动设置的清洁辊，所述清洁辊能够贴合所述传动带的顶部的硅片；所述支撑架的底部设置有自洁组件，所述自洁组件包括转动设置的自洁辊，所述自洁辊能够贴合所述传送带的底部的外壁；进一步的，通过自洁组件的设置，能够对传送带的表面进行清洁，即利用自洁辊的侧壁与传送带的表面的线速度差，使自洁辊对传送带表面进行清洁，保证传送带表面的洁净。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于硅片清洗，具体涉及一种硅片正面粗洗模组。

技术介绍

1、硅片在脱胶分片后，需要进行多步清洗，在这过程中就包括粗洗，其主要清洗掉硅片表面的较大杂质，之后方能进入清洗制绒工序。因此清洗制绒前道的粗洗设备对硅片的高质量生产制造有着紧密的关系；

2、但是，现有的硅片清洗设备，无法完成传送带的自清洁，在连续清洗时，脏污的传动带在承托硅片时，无法使硅片良好贴合传送带，导致硅片无法良好被吸附在传送带上，影响硅片的清洗效果；

3、因此，提供一种能够对传送带自清洁的硅片正面粗洗模组是很有必要的。

技术实现思路

1、本技术的目的是提供一种能够对传送带自清洁的硅片正面粗洗模组。

2、为了解决上述技术问题，本技术提供了一种硅片正面粗洗模组，包括：一对镜像设置的支撑架，所述支撑架上转动设置有主动辊和被动辊，所述主动辊和所述被动辊上支撑有传送带；所述支撑架的顶部设置有清洁组件，所述清洁组件包括若干转动设置的清洁辊，所述清洁辊能够贴合所述传动带的顶部的硅片；所述支撑架的底部设置有自洁组件，所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种硅片正面粗洗模组，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的硅片正面粗洗模组，其特征在于，

3.如权利要求2所述的硅片正面粗洗模组，其特征在于，

4.如权利要求3所述的硅片正面粗洗模组，其特征在于，

5.如权利要求4所述的硅片正面粗洗模组，其特征在于，

6.如权利要求5所述的硅片正面粗洗模组，其特征在于，

7.如权利要求6所述的硅片正面粗洗模组，其特征在于，

8.如权利要求7所述的硅片正面粗洗模组，其特征在于，

【技术特征摘要】

1.一种硅片正面粗洗模组，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的硅片正面粗洗模组，其特征在于，

3.如权利要求2所述的硅片正面粗洗模组，其特征在于，

4.如权利要求3所述的硅片正面粗洗模组，其特征在于，

【专利技术属性】
技术研发人员：左国军，李晶晶，张凯，巩振江，尹丽英，赵俊，
申请(专利权)人：常州捷佳创精密机械有限公司，
类型：新型
国别省市：

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