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本技术属于硅片清洗技术领域，具体涉及一种硅片正面粗洗模组，本装置包括：一种硅片正面粗洗模组，包括：一对镜像设置的支撑架，所述支撑架上转动设置有主动辊和被动辊，所述主动辊和所述被动辊上支撑有传送带；所述支撑架的顶部设置有清洁组件，所述清洁组件...
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