光学式光阻成形设备制造技术

技术编号:43320470 阅读:24 留言:0更新日期:2024-11-15 20:20
本技术公开了一种光学式光阻成形设备,其包含一加工载台、一位移机构、一光阻喷涂器、及一激光发射器。所述加工载台用以供一铜质模具设置。所述位移机构安装于所述加工载台且能用以相对于所述铜质模具移动。所述光阻喷涂器对应于所述加工载台设置,用以于所述铜质模具上形成有厚度介于3微米~5微米之间的一光阻层。所述激光发射器安装于所述位移机构,以能通过所述位移机构而相对于所述铜质模具移动。所述激光发射器能通过所述位移机构而用以朝向所述光阻层往复发出激光光线,以使所述光阻层的所述厚度被削薄至介于0.25微米~0.35微米。据此,通过光学方式以使所述光阻层的厚度薄至默认值且具有较佳均匀度。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种成形设备,尤其涉及一种光学式光阻成形设备


技术介绍

1、现有的模具大都是以涂布方式在其外表面形成有光阻层,但此涂布方式所形成的所述光阻层有其局限性存在(如:厚度难以进一步被均匀地缩小),因而无形中导致本领域的相关技术研究产生停滞。于是,本申请人认为上述缺陷可改善,乃特潜心研究并配合科学原理的运用,终于提出一种设计合理且有效改善上述缺陷的本技术。


技术实现思路

1、本技术实施例在于提供一种光学式光阻成形设备,其能有效地改善现有模具的光阻成形限制。

2、本技术实施例公开一种光学式光阻成形设备,其包括:一加工载台,用以供一铜质模具设置;一位移机构,安装于加工载台且能用以相对于铜质模具移动;一光阻喷涂器,对应于加工载台设置,用以于铜质模具形成有厚度介于3微米~5微米之间的一光阻层;以及;一激光发射器,安装于位移机构,以能通过位移机构而相对于铜质模具移动;其中,激光发射器能通过位移机构而用以朝向光阻层往复发出激光光线,以使光阻层的厚度被削薄至介于0.25微米~0.35微米

3、本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光学式光阻成形设备,其特征在于,所述光学式光阻成形设备包括:

2.根据权利要求1所述的光学式光阻成形设备,其特征在于,所述光学式光阻成形设备进一步包含有一烘烤机构,用以固化所述光阻喷涂器所形成的所述光阻层。

3.根据权利要求1所述的光学式光阻成形设备,其特征在于,所述光阻喷涂器安装于所述位移机构,以能通过所述位移机构而相对于所述铜质模具移动。

4.根据权利要求1所述的光学式光阻成形设备,其特征在于,所述铜质模具呈滚轮状,所述加工载台固定于所述铜质模具的两端且能等速地使所述铜质模具以其中心线为轴心而自转。

5.根据权利要求1所述的光学...

【技术特征摘要】

1.一种光学式光阻成形设备,其特征在于,所述光学式光阻成形设备包括:

2.根据权利要求1所述的光学式光阻成形设备,其特征在于,所述光学式光阻成形设备进一步包含有一烘烤机构,用以固化所述光阻喷涂器所形成的所述光阻层。

3.根据权利要求1所述的光学式光阻成形设备,其特征在于,所述光阻喷涂器安装于所述位移机构,以能通过所述位移机构而相对于所述铜质模具移动。

4.根据权利要求1所述的光学式光阻成形设备,其特征在于,所述铜质模具呈滚轮状,所述加工载台固定于所述铜质模具的两端且能等速地使所述铜质模具以其中心线为轴心而自转。

5.根据权利要求1所述的光学式光阻成形设备,其特征在于,所述激光发射器能用来发出强度介于1w~...

【专利技术属性】
技术研发人员:林刘恭
申请(专利权)人:光群雷射科技股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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