一种透明样品厚度和折射率测量系统及方法技术方案

本发明专利技术属于光学测量领域中的干涉测量技术，涉及一种透明样品厚度和折射率测量系统及方法。系统包括：SLD光源、光谱仪、光纤结构、参考端结构和测量端结构。所述参考端结构包括反射镜、参考端准直器及其角度调整架；所述测量端结构包括上测量端准直器及其角度调整架、下测量端准直器及其角度调整架、XYZ轴位移台、双轴电控载物台、第一偏振片和第二偏振片；本发明专利技术无需使用标准高度样品即可测量待测样品的厚度和折射率，从而消除标准高度样品误差对测量结果的影响，实现自标定测量。本发明专利技术通过利用两偏振片上下平行放置，可以衰减光强的特性，减弱测量端上下准直器之间耦合光束的强度，解决了测量过程中透射光强对信号的获取与处理造成的影响。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光学测量领域，特别涉及一种透明样品厚度和折射率测量系统及方法。

技术介绍

1、透明样品厚度的测量方法主要分为接触式和非接触式两类。接触式测量方法，如机械探针和千分尺，尽管具有高精度和易于操作的优点，但不可避免地会对样品表面造成损伤，特别是在处理柔软或易碎材料时问题尤为突出。非接触式测量方法，如激光测厚仪和光谱椭偏仪，能够避免样品损伤，并适用于高温、高速或危险环境下的测量。然而，这些方法也有其局限性，例如激光测厚对表面反射率敏感，光谱椭偏仪对样品表面的光洁度要求较高。

2、现有的光学测量技术往往需要标准高度样品才能测量出待测样品的厚度。如cn114894106a公开了一种不透明样品厚度测量系统及方法，该方法使用双探头通过对已知厚度的标准高度样品进行标定，得到测量样品上、下表面两个干涉系统的零光程差位置之间的距离，进而实现样品厚度测量。

3、cn107167085a公开了一种共光路自校准薄膜厚度测量装置及测量方法，该方法使用双探头进行光程扫描获得两探头之间的绝对距离，进而对样品上下表面进行光程扫描实现样品厚度测量；但是该方本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种透明样品厚度和折射率测量系统，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的透明样品厚度和折射率测量系统，其特征在于，所述光纤结构(3)包括第一光纤衰减器(301)、第一光纤耦合器(302)、第二光纤耦合器(303)和第二光纤衰减器(304)；

3.一种根据权利要求1或2所述的透明样品厚度和折射率测量系统的透明样品厚度和折射率的测量方法，其特征在于，包括如下步骤：

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，步骤1)具体包括如下步骤：

5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，步骤2)所述的得到测量端与参考端之间的光程差ΔR的具体方法是...

【技术特征摘要】

1.一种透明样品厚度和折射率测量系统，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的透明样品厚度和折射率测量系统，其特征在于，所述光纤结构(3)包括第一光纤衰减器(301)、第一光纤耦合器(302)、第二光纤耦合器(303)和第二光纤衰减器(304)；

3.一种根据权利要求1或2所述的透明样品厚度和折射率测量系统的透明样品厚度和折射率的测量方法，其特征在于，包括如下步骤：

4.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭彤，张涛，万一夫，郭心远，
申请(专利权)人：天津大学，
类型：发明
国别省市：