【技术实现步骤摘要】
本技术涉及化学机械抛光，尤其是涉及一种研磨头和具有其的抛光设备。
技术介绍
1、单晶硅片制造过程和前半制程中需要多次用到化学机械抛光技术。其工作过程是：抛光头将晶圆被抛光面挤压在粗糙的抛光垫上，借助抛光液腐蚀、微粒摩擦、抛光垫摩擦等耦合实现全局平坦化。
2、抛光头的主要组成有：抛光头基座、抛光头活塞、弹性膜、保持环、紧固件。保持环分为固定式保持环和浮动式保持环两种，其中，浮动式保持环通过一个气囊与抛光头基座或抛光头活塞连接，气囊的材质通常为柔软的橡胶材质或者类似材质，气囊通过螺纹紧固件与保持环连接和抛光头基座或抛光头活塞连接，当螺纹紧固件时，紧固件会拉扯气囊的边缘造成气囊的不规则变形，当气囊受到气压作用发生膨胀时，气囊可能会发生明显扭曲，影响保持环的控制效果和气囊的使用寿命。
技术实现思路
1、本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本技术在于提出一种研磨头，所述研磨头可以有效减少从第一柔性膜和第二柔性膜之间的间隙进入到基座中的抛光液的量，进而可以降低研磨头的清洗难度，提高研磨头的清洁度；还可以有效改善第一柔性膜和第二柔性膜因安装造成的不规则变形的情况，进而可以减少第一柔性膜和第二柔性膜充压膨胀时发生扭曲的概率，从而可以提升第一柔性膜和第二柔性膜的使用寿命，保证保持环的控制效果。
2、本技术还提出一种具有上述研磨头的抛光设备。
3、根据本技术第一方面的研磨头，用于抛光设备，所述抛光设备用于抛光待抛光件，所述研磨头包括：基座，所述基座
4、根据本技术的研磨头，通过设置弹性件，可以有效减少从第一柔性膜和第二柔性膜之间的间隙进入到基座中的抛光液的量，进而可以降低研磨头的清洗难度，提高研磨头的清洁度；还可以有效改善第一柔性膜和第二柔性膜因安装造成的不规则变形的情况，进而可以减少第一柔性膜和第二柔性膜充压膨胀时发生扭曲的概率，从而可以提升第一柔性膜和第二柔性膜的使用寿命，保证保持环的控制效果。
5、根据本技术的一些实施例，所述弹性件沿所述安装腔的周向延伸为环形，且所述弹性件密封连接在所述第一柔性膜与所述第二柔性膜之间。
6、根据本技术的一些实施例，所述弹性件与所述第一柔性膜和所述第二柔性膜中的至少一个一体成型。
7、根据本技术的一些实施例，所述弹性件包括：第一连接段，所述第一连接段与所述第一柔性膜相连并沿所述敞开口的径向向外延伸；第二连接段，所述第二连接段的一端与所述第一连接段的外端相连且另一端朝向所述安装腔的底壁延伸；第三连接段，所述第三连接段连接在所述第二连接段的所述另一端并沿所述敞开口的径向向外延伸至与所述第二柔性膜相连。
8、根据本技术的一些实施例，所述第一柔性膜包括：主体部，所述主体部具有可加压的第一腔；连接部，所述连接部与所述主体部相连，所述连接部布置在所述主体部的径向外侧，所述连接部朝向所述安装腔的底壁延伸，所述连接部具有可加压的第一腔，所述连接部背离所述安装腔的底壁的一侧表面适于与所述待抛光件贴合，所述弹性件沿所述敞开口的径向延伸，所述弹性件在所述敞开口的径向方向上的两端分别连接所述连接部和所述第二柔性膜。
9、根据本技术的一些实施例，所述第一柔性膜具有间隔布置的多个所述第一腔，多个所述第一腔在平行于所述第一表面的平面内排布。
10、根据本技术的一些实施例，所述基座包括：座体和活塞，所述活塞沿垂直于所述第一表面的方向可移动地与所述座体相连，所述活塞与所述座体之间限定出可充入压力介质的空腔，所述第一柔性膜固定在所述活塞背离所述空腔的一侧表面。
11、根据本技术的一些实施例，所述安装腔形成于所述座体上，且所述活塞可移动地设于所述安装腔内。
12、根据本技术的一些实施例，所述活塞背离所述第一柔性膜的一侧形成有凹腔，所述座体设于所述凹腔内，所述空腔形成于所述凹腔的底壁与所述座体之间，所述安装腔形成于所述活塞背离所述座体的一侧。
13、根据本技术的一些实施例，所述凹腔的周壁和所述座体的表面中的一个形成有限位槽且另一个形成有限位凸起，所述限位凸起沿所述活塞的移动方向可移动地配合于所述限位槽内。
14、根据本技术第二方面的抛光设备，包括根据本技术第一方面的研磨头和驱动机构，所述驱动机构与所述基座相连用于驱动所述基座转动。
15、根据本技术的抛光设备，通过设置上述第一方面的研磨头，从而提高了抛光设备的整体性能。
16、根据本技术的一些实施例，所述抛光设备用于抛光晶圆。
17、本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。
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1.一种研磨头，用于抛光设备，所述抛光设备用于抛光待抛光件，其特征在于，所述研磨头包括：
2.根据权利要求1所述的研磨头，其特征在于，所述弹性件沿所述安装腔的周向延伸为环形，且所述弹性件密封连接在所述第一柔性膜与所述第二柔性膜之间。
3.根据权利要求2所述的研磨头，其特征在于，所述弹性件与所述第一柔性膜和所述第二柔性膜中的至少一个一体成型。
4.根据权利要求1所述的研磨头，其特征在于，所述弹性件包括：
5.根据权利要求1所述的研磨头，其特征在于，所述第一柔性膜包括：
6.根据权利要求1所述的研磨头，其特征在于，所述第一柔性膜具有间隔布置的多个所述第一腔，多个所述第一腔在平行于所述第一表面的平面内排布。
7.根据权利要求1-6中任一项所述的研磨头，其特征在于，所述基座包括：座体和活塞，所述活塞沿垂直于所述第一表面的方向可移动地与所述座体相连，所述活塞与所述座体之间限定出可充入压力介质的空腔，所述第一柔性膜固定在所述活塞背离所述空腔的一侧表面。
8.根据权利要求7所述的研磨头，其特征在于，所述安装腔形
9.根据权利要求7所述的研磨头，其特征在于，所述活塞背离所述第一柔性膜的一侧形成有凹腔，所述座体设于所述凹腔内，所述空腔形成于所述凹腔的底壁与所述座体之间，
10.根据权利要求9所述的研磨头，其特征在于，所述凹腔的周壁和所述座体的表面中的一个形成有限位槽且另一个形成有限位凸起，所述限位凸起沿所述活塞的移动方向可移动地配合于所述限位槽内。
11.一种抛光设备，其特征在于，包括：
12.根据权利要求11所述的抛光设备，其特征在于，所述抛光设备用于抛光晶圆。
...【技术特征摘要】
1.一种研磨头，用于抛光设备，所述抛光设备用于抛光待抛光件，其特征在于，所述研磨头包括：
2.根据权利要求1所述的研磨头，其特征在于，所述弹性件沿所述安装腔的周向延伸为环形，且所述弹性件密封连接在所述第一柔性膜与所述第二柔性膜之间。
3.根据权利要求2所述的研磨头，其特征在于，所述弹性件与所述第一柔性膜和所述第二柔性膜中的至少一个一体成型。
4.根据权利要求1所述的研磨头，其特征在于，所述弹性件包括：
5.根据权利要求1所述的研磨头，其特征在于，所述第一柔性膜包括：
6.根据权利要求1所述的研磨头，其特征在于，所述第一柔性膜具有间隔布置的多个所述第一腔，多个所述第一腔在平行于所述第一表面的平面内排布。
7.根据权利要求1-6中任一项所述的研磨头，其特征在于，所述基座包括：座体和活塞，所述活塞沿垂...
【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，
申请(专利权)人：江苏元夫半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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