【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及渐变中灰度镜和pvd镀膜，具体涉及一种用于制备渐变中灰度镜的磁控溅射设备、基于磁控溅射镀膜工艺镀制gnd filter(渐变中灰度镜)的方法以及采用该方法制备得到的gnd filter和其在成像模组或成像产品如相机中应用。
技术介绍
1、自相机问世以来，人类试图以此复制肉眼看见的繁华绝美世界，但由于相机成像和人眼看到的景象，无论从色彩、光线亮暗、对比度等仍然存在很大差异；以至于宽容度最高的相机都无法和人眼有相同的成像效果，因此也就无法完美记录千变万化的大自然。但是人们还是在努力开发各种技术方案来解决这些问题。比如，针对太阳光下拍摄时易产生过曝的情况，人们就开发出了gnd filter(graduated ne utral density filter，渐变中灰度镜)方案，使画面更清晰。
2、gnd filter是摄影艺术创作中极为重要的滤镜之一。人类的眼睛可以抓捕到一个大范围的亮度还有阴影。这就是经常说的“动态范围”，但是目前相机传感器技术还没有能够达到人眼的动态范围。因此，使用渐变中灰镜可以在单次曝光的时候拍...
【技术保护点】
1.一种用于制备渐变中灰度镜的磁控溅射设备，包括真空室、靶材组件、真空室门和位于所述真空室内的承载部，所述承载部用于承载基板，所述基板与靶材组件相对设置，其特征在于，所述基板与靶材组件之间具有用于形成渐变中灰度镜的渐变区域的挡板组件，所述挡板组件包括挡板以及固定所述挡板的固定机构。
2.根据权利要求1所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述挡板上设置有用于形成硬渐变的平整部和/或用于形成软渐变的镂空部，所述镂空部贯穿所述挡板的厚度方向，所述镂空部位于所述挡板的中间或宽度方向的边缘。
3.根据权利要求2所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述镂空部包括多...
【技术特征摘要】
1.一种用于制备渐变中灰度镜的磁控溅射设备，包括真空室、靶材组件、真空室门和位于所述真空室内的承载部，所述承载部用于承载基板，所述基板与靶材组件相对设置，其特征在于，所述基板与靶材组件之间具有用于形成渐变中灰度镜的渐变区域的挡板组件，所述挡板组件包括挡板以及固定所述挡板的固定机构。
2.根据权利要求1所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述挡板上设置有用于形成硬渐变的平整部和/或用于形成软渐变的镂空部，所述镂空部贯穿所述挡板的厚度方向，所述镂空部位于所述挡板的中间或宽度方向的边缘。
3.根据权利要求2所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述镂空部包括多个镂空单元，每个所述镂空单元为圆形、连续或间断的v型、弧形中的一种或多种的组合。
4.根据权利要求1所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述挡板固定在所述固定机构的端部；所述挡板上开设有供所述固定机构贯穿的贯穿孔。
5.根据权利要求1或4所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述挡板组件包括用于驱动所述固定机构移动的驱动机构。
6.根据权利要求4所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述挡板包括板部和杆部，所述板部设置在所述杆部上，所述杆部的长度大于所述板部，所述贯穿孔开设在所述杆部上，所述镂空部设置在所述板部上。
7.根据权利要求1所述的磁控溅射设备，其特征在于，包括用于对膜层的均匀性进行修正的修正组件，所述修正组件设置在所述基板与靶材组件之间。
8.根据权利要求7所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述挡板设置在所述基板和修正组...
【专利技术属性】
技术研发人员：奂微微，薛军明，闫强勇，
申请(专利权)人：苏州五方光电材料有限公司，
类型：发明
国别省市：
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