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本发明公开了一种用于制备渐变中灰度镜的磁控溅射设备，包括真空室、靶材组件、真空室门和位于所述真空室内的承载部，所述承载部用于承载基板，所述基板与靶材组件相对设置，所述基板与靶材组件之间具有用于形成渐变中灰度镜的渐变区域的挡板组件，所述挡板组...
该专利属于苏州五方光电材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州五方光电材料有限公司授权不得商用。

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