一种制作微透镜阵列的方法技术

本发明专利技术公开了一种制作微透镜阵列的方法，该方法包括：在透明衬底上匀一层光刻胶；对该光刻胶层进行曝光显影，形成方形的光刻胶块；熔融该方形光刻胶块并迅速冷却至室温，形成具有微透镜形状的光刻胶掩膜；从透明衬底具有微透镜形状光刻胶掩膜的一面进行离子注入，在透明衬底中形成具有不同折射率的两层材料，其中一层材料具有微透镜形状；去除透明衬底上的光刻胶掩膜，形成具有不同折射率两种材料并且具有微透镜的阵列结构。利用本发明专利技术，可以制作多层透镜阵列，并能够与传统的集成电路离子注入光刻工艺相集成，适合大规模生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及微透镜阵列制作
，尤其涉及一种通过离子注入以 及光刻的方式制作微透镜阵列的方法。
技术介绍
自从微机电系统(MEMS)的概念提出开始，微透镜阵列一直都是光 微机械研究的一个重要课题。微透镜阵列在许多领域都有广泛的应用，例 如光互连技术、固体发光技术、微显示、光通讯等。微透镜从应用角度可以分为两类On Chip型和非OnChip型。所谓 On Chip型，就是微透镜阵列是和芯片上其他功能模块制作在一起，更简 单的说On Chip型微透镜只是整个芯片制作的一个工序。非On Chip型顾 名思义就是微透镜是单独制作的、分立的，可以作为一个单独的元件使用 到不同的系统上。非OnChip型的微透镜阵列在市场上已经有一些商品化 的产品，其主要制作手段是通过灰度光刻+刻蚀的方法。目前，微透镜最大的市场是在OnChip器件上，因为OnChip就是和 芯片捆绑在一起，也就是和最大的市场捆绑在一起。OnChip对微透镜阵 列的作要求更高，需要有精细的对准，严格的加工温度，易于封装等。由 于微细加工手段的不断丰富，现有的微透镜的制作方法也很多，例如1.熔 融法，通过融化Si02或者P本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制作微透镜阵列的方法，其特征在于，该方法包括：　　　　在透明衬底上匀一层光刻胶；　　　　对该该光刻胶层进行曝光显影，形成方形的光刻胶块；　　　　熔融该方形光刻胶块并迅速冷却至室温，形成具有微透镜形状的光刻胶掩膜；　　　　从透明衬底具有微透镜形状光刻胶掩膜的一面进行离子注入，在透明衬底中形成具有不同折射率的两层材料，其中一层材料具有微透镜形状；　　　　去除透明衬底上的光刻胶掩膜，形成具有不同折射率两种材料并且具有微透镜的阵列结构。

【技术特征摘要】
1、一种制作微透镜阵列的方法，其特征在于，该方法包括在透明衬底上匀一层光刻胶；对该该光刻胶层进行曝光显影，形成方形的光刻胶块；熔融该方形光刻胶块并迅速冷却至室温，形成具有微透镜形状的光刻胶掩膜；从透明衬底具有微透镜形状光刻胶掩膜的一面进行离子注入，在透明衬底中形成具有不同折射率的两层材料，其中一层材料具有微透镜形状；去除透明衬底上的光刻胶掩膜，形成具有不同折射率两种材料并且具有微透镜的阵列结构。2、 根据权利要求1所述的制作微透镜阵列的方法，其特征在于，所 述透明衬底为玻璃。3、 根据权利要求1所述的制作微透镜阵列的方法，其特征在于，所 述对该光刻胶层进行曝光显影，具体工艺条件为选取azp4620光刻胶，...

【专利技术属性】
技术研发人员：董立军，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]