【技术实现步骤摘要】
本技术涉及薄膜沉积,尤其涉及一种石英窗,以及一种紫外光固化机台。
技术介绍
1、在薄膜沉积领域,紫外光固化技术是一种常用的固化方法。该技术利用紫外光的能量来引发薄膜材料中的化学反应,将其从液态或半固态转变为坚硬的固态薄膜。紫外光固化具有固化速度快、无需热处理、节省能源等优点。在制造半导体器件、光学薄膜、涂层等应用中得到广泛应用。
2、紫外光固化技术中,通常采用石英窗,对紫外光进行传输以及保护。它具有良好的光学性能和化学稳定性,能够承受高能量的紫外光照射而不发生变形或损坏。然而,石英材料在193nm光照射下,会造成石英材料某些化学键的断裂,对材料的吸收、透射、折射灯光学性质产生不良的影响。
3、为了克服现有技术存在的上述缺陷,本领域亟需一种石英窗,用于屏蔽特定波长,从而防止化学键断裂对材料的吸收、透射、折射灯光学性质产生不良的影响,从而延长石英窗使用寿命。
技术实现思路
1、以下给出一个或多个方面的简要概述以提供对这些方面的基本理解。此概述不是所有构想到的方面的详尽综
...【技术保护点】
1.一种石英窗,设于紫外光源与待紫外固化的晶圆之间,其特征在于,所述石英窗包括:
2.如权利要求1所述的石英窗,其特征在于,所述保护层由多层高折射率材料和至少一层低折射率材料交替间隔组成,其中,所述保护层的最高层和最低层皆为高折射率材料。
3.如权利要求2所述的石英窗,其特征在于,所述高折射率材料包括氧化铝,而所述低折射率材料包括二氧化硅。
4.如权利要求3所述的石英窗,其特征在于,所述保护层由交替沉积的十八层氧化铝薄膜和十七层二氧化硅薄膜组成,其中,所述氧化铝薄膜的折射率为1.72,所述二氧化硅薄膜的折射率为1.46。
【技术特征摘要】
1.一种石英窗,设于紫外光源与待紫外固化的晶圆之间,其特征在于,所述石英窗包括:
2.如权利要求1所述的石英窗,其特征在于,所述保护层由多层高折射率材料和至少一层低折射率材料交替间隔组成,其中,所述保护层的最高层和最低层皆为高折射率材料。
3.如权利要求2所述的石英窗,其特征在于,所述高折射率材料包括氧化铝,而所述低折射率材料包括二氧化硅。
4.如权利要求3所述的石英窗,其特征在于,所述保护层由交替沉积的十八层氧化铝薄膜和十七层二氧化硅薄膜组成,其中,所述氧化铝薄膜的折射率为1.72,所述二氧化硅薄膜的折射率为1.46。
5.如权利要求4所述的石英窗,其特征在于,各所述保护层从所述石英基片到所述紫外光源方向的厚度依次为10.06nm、22.79nm、67.89nm、6.82nm、28.94nm、18.39nm、28.2nm、3.22nm...
【专利技术属性】
技术研发人员:蒋天明,
申请(专利权)人:拓荆创益沈阳半导体设备有限公司,
类型:新型
国别省市:
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