【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于红外图像非均匀校正领域，具体涉及一种考虑衰减片和积分时间影响的高效非均匀校正方法。
技术介绍
1、红外成像系统受限于当前红外成像系统核心器件的工艺水平，红外图像存在非均匀性，具体表现为条纹噪声、块状噪声、噪点以及光晕现象，严重影响了红外成像系统的成像质量，因此红外图像通常需要非均匀校正。如今红外成像系统为了探测多类目标，通常通过添加衰减片和积分时间来达到宽动态范围探测的目的。而工程上使用的两点非均匀校正法对这样的系统显现出了自己的弊端。由于变衰减片和变积分时间，使得校正档位多，两点非均匀校正法需要对每个档位进行校正，操作变得繁琐耗时；由于档位的增多，需存储的校正系数变多，这对于存储资源紧张的星载和机载系统难以满足。另外，有时为了获得优异的非均匀校正效果，需要对每个档位进行多段两点非均匀校正，以适应背景环境辐射变化大的场景。这便会进一步增加两点校正系数的数量，使得两点校正的弊端更为凸显。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种考虑衰减片和积分时间影响的高效非均匀校正方法...
【技术保护点】
1.一种考虑衰减片和积分时间影响的高效非均匀校正方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.如权利要求1所述的考虑衰减片和积分时间影响的高效非均匀校正方法，其特征在于，所述步骤1包括：
3.如权利要求1所述的考虑衰减片和积分时间影响的高效非均匀校正方法，其特征在于，所述步骤2包括：
4.如权利要求1所述的考虑衰减片和积分时间影响的高效非均匀校正方法，其特征在于，所述步骤3包括：
5.如权利要求1所述的考虑衰减片和积分时间影响的高效非均匀校正方法，其特征在于，所述步骤4中采用加权线性最小二乘方法求解剩余像素的其余七个非均匀校正系数包括：
【技术特征摘要】
1.一种考虑衰减片和积分时间影响的高效非均匀校正方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.如权利要求1所述的考虑衰减片和积分时间影响的高效非均匀校正方法，其特征在于，所述步骤1包括：
3.如权利要求1所述的考虑衰减片和积分时间影响的高效非均匀校正方法，其特征在于，所述步骤...
【专利技术属性】
技术研发人员：谷牧，李素钧，周金梅，任栖锋，赵旭龙，王宇，廖胜，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：
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