【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光刻设备，具体而言，涉及一种刚度阻尼装置及具有其的光刻设备。
技术介绍
1、光刻设备是集成电路制造的核心设备，平面光栅测量系统是光刻设备的核心分系统，平面光栅测量技术的应用极大地提高了光刻设备的套刻精度和产率，其中，平面光栅作为光刻设备中用于测量工件台相对于计量框架位置的测量基准，其工作状态下的结构动态稳定性直接影响工件台的定位精度。平面光栅在工作状态下的结构动态稳定性主要受以下三方面影响：(1)光栅安装板的微振动的影响；(2)高速运动的工件台产生的气流压力波对平面光栅和光栅安装板产生的冲击影响；(3)计量框架周围环境温度及其内部冷却水温度波动，造成的计量框架膨胀、收缩及扭转而传递到光栅安装板的影响。
2、目前，光栅安装板与计量框架通过连接装置连接，但是，这种连接装置无法降低由计量框架传递的机械扰动、热扰动和工件台在高速运动产生的气流压力波对平面光栅和光栅安装板在工作状态下的结构动态稳定性的干扰，从而导致光刻设备的套刻精度降低。
技术实现思路
1、本专利技术的第一...
【技术保护点】
1.一种刚度阻尼装置，其特征在于，包括沿Z向设置的第一安装结构(100)和第二安装结构(200)，所述第一安装结构(100)固定连接活塞(400)，所述第二安装结构(200)开设容纳腔(210)，所述容纳腔(210)设置粘性流体(500)，所述活塞(400)伸入所述容纳腔(210)，且沿XY平面投影，所述活塞(400)的轮廓小于所述容纳腔(210)的轮廓；所述第一安装结构(100)为可变形结构，所述第一安装结构(100)能够产生绕X向的变形、绕Y向的变形和绕Z向的变形；所述第一安装结构(100)通过补偿组件(300)与所述第二安装结构(200)连接，所述补偿组件(30...
【技术特征摘要】
1.一种刚度阻尼装置，其特征在于，包括沿z向设置的第一安装结构(100)和第二安装结构(200)，所述第一安装结构(100)固定连接活塞(400)，所述第二安装结构(200)开设容纳腔(210)，所述容纳腔(210)设置粘性流体(500)，所述活塞(400)伸入所述容纳腔(210)，且沿xy平面投影，所述活塞(400)的轮廓小于所述容纳腔(210)的轮廓；所述第一安装结构(100)为可变形结构，所述第一安装结构(100)能够产生绕x向的变形、绕y向的变形和绕z向的变形；所述第一安装结构(100)通过补偿组件(300)与所述第二安装结构(200)连接，所述补偿组件(300)允许所述第一安装结构(100)与所述第二安装结构(200)产生沿z向的相对位移，所述补偿组件(300)环绕并密封所述容纳腔(210)，所述补偿组件(300)还允许所述第一安装结构(100)与所述第二安装结构(200)之间具有绕x向的转动自由度、绕y向的转动自由度和绕z向的转动自由度。
2.根据权利要求1所述的刚度阻尼装置，其特征在于，所述第一安装结构(100)包括二维柔性铰链(110)和连接组件(120)，所述二维柔性铰链(110)能够使所述第一安装结构(100)产生绕x向的变形和绕y向的变形，所述补偿组件(300)连接在所述连接组件(120)与所述第二安装结构(200)之间；所述连接组件(120)能够使所述第一安装结构(100)产生绕z向的变形。
3.根据权利要求2所述的刚度阻尼装置，其特征在于，所述连接组件(120)包括轴线相平行的连接环(121)和密封环(122)，所述连接环(121)与所述二维柔性铰链(110)固定连接，所述密封环(122)设置在所述连接环(121)的内部，所述密封环(122)环绕所述活塞(400)设置并与所述活塞(400)固定连接，其中，所述连接环(121)用于使所述第一安装结构(100)产生绕z向的变形，所述补偿组件(300)包括伸缩结构(310)，所述伸缩结构(310)连接在所述密封环(122)与所述第二安装结构(200)之间，...
【专利技术属性】
技术研发人员：付大为，焦健，曹凯，
申请(专利权)人：北京华卓精科科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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