【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种集成电路的制造方法，且特别是涉及一种光学邻近效应校正的切分方法与图案化的方法。
技术介绍
1、在半导体工艺中，随着组件尺寸的不断缩小的需求。光学邻近效应校正技术被采用作为增强分辨率技术。通常在进行光学邻近效应校正之前，会将布局图案进行切分，然而，目前切分的发数太多，以致切分的效率过低。
技术实现思路
1、本专利技术提供一种光学邻近效应校正的切分方法与图案化的方法可以减少切分的发数，提升切分的效率。
2、依据本专利技术的实施例，一种光学邻近效应校正的切分方法，包括以下步骤。进行初始切分，将布局图案的每一边定义为原始段，以形成多个原始段。判断目标边的对边是否有内角。如果有所述内角，对所述目标边进行对角切分，以形成多个中间段。判断目标段的对边与其邻边的夹角的种类，其中所述目标段包括所述多个原始段与所述多个中间段其中之一。依据所述夹角的种类对所述目标段进行对称切分。
3、依据本专利技术的实施例，一种光学邻近效应校正的切分方法，包括以下步骤。提供布局图案。进...
【技术保护点】
1.一种光学邻近效应校正的切分方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光学邻近效应校正的切分方法，其中如果无所述内角，则不对所述目标边进行对角切分，并维持所述目标边对应的原始段。
3.根据权利要求1所述的光学邻近效应校正的切分方法，其中所述内角的角度包括270度。
4.根据权利要求1所述的光学邻近效应校正的切分方法，其中在进行所述对角切分前，进行长度判断，依据所述目标边所对应的原始段的第一长度判断是否小于第一设定值，
5.根据权利要求1所述的光学邻近效应校正的切分方法，其中所述夹角的种类至少包括三个组：
...【技术特征摘要】
1.一种光学邻近效应校正的切分方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光学邻近效应校正的切分方法，其中如果无所述内角，则不对所述目标边进行对角切分，并维持所述目标边对应的原始段。
3.根据权利要求1所述的光学邻近效应校正的切分方法，其中所述内角的角度包括270度。
4.根据权利要求1所述的光学邻近效应校正的切分方法，其中在进行所述对角切分前，进行长度判断，依据所述目标边所对应的原始段的第一长度判断是否小于第一设定值，
5.根据权利要求1所述的光学邻近效应校正的切分方法，其中所述夹角的种类至少包括三个组：
6.一种光学邻近效应校正的切分方法，其特征在于，包括：
7.根据权利要求6所述的光学邻近效应校正的切分方法，其中，所述第一夹角关系至少包括两个规则组。
8.根据权利要求7所述的光学邻近效应校正的切分方法，其中，当所述第一夹角关系包括270度时，则对所述目标边的所述对应的原始段进行所述对角切分。
9.根据权利要求8...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄品翰，
申请(专利权)人：联华电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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