【技术实现步骤摘要】
本技术涉及供气装置，具体为一种真空镀膜设备用供气装置。
技术介绍
1、真空镀膜设备，主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，mbe分子束外延，pld激光溅射沉积等很多种，主要思路是分成蒸发和溅射两种。
2、在中国技术专利申请公开说明书为cn217809623u所公开的一种真空镀膜设备用供气装置，两个供气瓶通过气压阀和供气管连接，有效实现对真空镀膜设备进行不间断供气，有效增加真空镀膜设备的使用效果，但是该装置与真空镀膜设备连接不够便捷，为此我们提出了一种真空镀膜设备用供气装置。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种真空镀膜设备用供气装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
3、一种真空镀膜设备用供气装置，包括供气箱，所述供气箱顶部设置有气泵，所述气泵顶部设置有进气口，所述进气口顶端设置有过滤罩，所述进气口内部两侧均开设有方槽，所述方槽内部设置有固定机构，所述供气...
【技术保护点】
1.一种真空镀膜设备用供气装置，包括供气箱(1)，其特征在于：所述供气箱(1)顶部设置有气泵(2)，所述气泵(2)顶部设置有进气口(3)，所述进气口(3)顶端设置有过滤罩(4)，所述进气口(3)内部两侧均开设有方槽(5)，所述方槽(5)内部设置有固定机构，所述供气箱(1)外部一侧设置有排气口(6)，所述排气口(6)一端设置有连接头(7)，所述连接头(7)一端开设有安装槽(8)，所述安装槽(8)内部设置有连接管(9)，所述安装槽(8)内部两侧均开设有限位槽(10)，所述限位槽(10)内部设置有分离机构，所述连接管(9)一端两侧均开设有容纳槽(11)，所述容纳槽(11)内...
【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜设备用供气装置，包括供气箱(1)，其特征在于：所述供气箱(1)顶部设置有气泵(2)，所述气泵(2)顶部设置有进气口(3)，所述进气口(3)顶端设置有过滤罩(4)，所述进气口(3)内部两侧均开设有方槽(5)，所述方槽(5)内部设置有固定机构，所述供气箱(1)外部一侧设置有排气口(6)，所述排气口(6)一端设置有连接头(7)，所述连接头(7)一端开设有安装槽(8)，所述安装槽(8)内部设置有连接管(9)，所述安装槽(8)内部两侧均开设有限位槽(10)，所述限位槽(10)内部设置有分离机构，所述连接管(9)一端两侧均开设有容纳槽(11)，所述容纳槽(11)内部设置有限位机构，所述连接管(9)外侧设置有密封机构。
2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备用供气装置，其特征在于：所述固定机构包括螺纹杆(12)、卡块(13)、旋钮(14)，所述方槽(5)内部一侧通过转轴设置有螺纹杆(12)，所述螺纹杆(12)一端通过螺纹槽活动设置有卡块(13)，所述进气口(3)外部两侧在螺纹杆(12)所在转轴一端均设置有旋钮(14)。
3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备用供气装置，其...
【专利技术属性】
技术研发人员：张基伟，夏晓谦，
申请(专利权)人：艾姆西艾宿迁电池技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。