成膜装置以及成膜方法制造方法及图纸

技术编号:43078082 阅读:26 留言:0更新日期:2024-10-26 09:29
本发明专利技术提供一种成膜装置以及成膜方法,能够抑制成膜品质的降低。成膜装置(1)具备:基板保持部(231),所述基板保持部保持基板(8);成膜源(101),所述成膜源在内部收容成膜材料,并朝向保持于基板保持部(231)的基板(8)放出成膜物质;移动机构,所述移动机构使成膜源(101)移动;相对位置调整部(220),所述相对位置调整部能够调整成膜源(101)相对于保持于基板保持部(231)的基板(8)的相对位置关系;以及相对位置检测部(103),所述相对位置检测部检测与相对位置关系相关的信息,所述成膜装置还具备控制部(400),所述控制部基于相对位置检测部(103)的检测结果来控制相对位置调整部(220),以便调整相对位置关系。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在基板上对成膜物质进行成膜的成膜装置及其成膜方法。


技术介绍

1、有机el显示装置(有机el显示器)用于智能手机、电视机、汽车用显示器、vr hmd(virtual reality head mount display:虚拟现实头戴式显示器)等各种领域。有机el元件的功能层以及电极层是通过在成膜装置内朝向基板放出构成各个层的成膜物质来对基板进行成膜而形成的。

2、为了进行高精度的成膜,重要的是在成膜动作时将基板与成膜源的相对距离、相对角度等控制在适当的值。在专利文献1中,公开了如下的成膜装置:具备收容成膜材料的成膜源(蒸镀源)的角度变更构件和升降构件,控制成膜源相对于基板的成膜面的相对位置关系。

3、现有技术文献

4、专利文献

5、专利文献1:日本特开2008-140669号公报

6、专利技术要解决的课题

7、在上述结构中,在预先调整基板与成膜源的相对位置关系之后执行成膜动作。在这样的结构中,在成膜动作中成膜装置或地板变形的情况下,基板与成膜源的相对位置关系有可能偏移而导本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种成膜装置,其特征在于,所述成膜装置具备:

2.如权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,

3.如权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,

4.如权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,

5.如权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,

6.如权利要求5所述的成膜装置,其特征在于,

7.如权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,

8.如权利要求7所述的成膜装置,其特征在于,

9.如权利要求7所述的成膜装置,其特征在于,

10.如权利要求9所述的成膜装置,其特征在于,</p>

11.如...

【技术特征摘要】

1.一种成膜装置,其特征在于,所述成膜装置具备:

2.如权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,

3.如权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,

4.如权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,

5.如权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,

6.如权利要求5所述的成膜装置,其特征在于,

7.如权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,

8.如权利要求7所述的成膜装置,其特征在于,

9.如权利要求7所述的成膜装置,其特征在于,

10.如权利要求9所述的成膜装置,其特征在于,

11.如权利...

【专利技术属性】
技术研发人员:足立将树
申请(专利权)人:佳能特机株式会社
类型:发明
国别省市:

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