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一种适用于衍射超表面的仿真分析方法及装置制造方法及图纸

技术编号:42963669 阅读:24 留言:0更新日期:2024-10-15 13:10
本发明专利技术涉及超表面技术领域,具体涉及一种适用于衍射超表面的仿真分析方法及装置。本发明专利技术实施例提供的适用于衍射超表面的仿真分析方法,基于对超表面单元结构模型进行参数扫描得到的半径‑相位对应分布点进行超表面模型的构建,同时在建模时加入加工误差,通过对加入加工误差之后和之前的模型分别进行仿真计算,并将得到的对应的衍射图像进行对比,从而确定加工误差的影响,为超表面的加工提供了指导。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及超表面,具体涉及一种适用于衍射超表面的仿真分析方法及装置


技术介绍

1、基于超表面的光学衍射神经网络通常在电子计算机上进行离线训练,得到设计参数后映射到光学器件上,将信息加载到光的特定维度上,实现一个或多个智能任务。在衍射神经网络中,超表面是光计算中进行光场调控的关键结构,结合了传统的几何、物理光学理论和前沿的纳米技术,是一种新型的光学结构,由具有亚波长尺度的二维或三维周期性微结构组成,能够精确调控传播光波的相位、振幅和偏振,推动了小型化、轻质化、集成化的光学器件发展。超表面的光学性能主要由结构单元的几何形状与尺寸、以及材料的介电常数决定。

2、然而,当前面向超表面网络的数值建模难以完美描述系统物理特性,超表面的物理尺寸、形貌和方位与设计有偏差,不同层的超表面之间在键合过程中存在装配误差。超表面加工质量与最终实现的功能有非常紧密的联系,在目前的微纳加工水平下,对于大规模、高深宽比超表面制备存在难以实现与设计值完美适配的技术壁垒。


技术实现思路

1、有鉴于此,本专利技术提供了一种适用本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种适用于衍射超表面的仿真分析方法,其特征在于,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,基于所述超表面单元结构模型进行参数扫描,确定超表面半径-相位对应分布点,包括:

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,基于所述半径-相位对应分布点进行超表面建模,对构建的第一超表面模型进行仿真计算,得到第一衍射图像,包括:

6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,基于所述第一衍射图像和所述第二衍射图像的对比确定加...

【技术特征摘要】

1.一种适用于衍射超表面的仿真分析方法,其特征在于,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,基于所述超表面单元结构模型进行参数扫描,确定超表面半径-相位对应分布点,包括:

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,基于所述半径-相位对应分布点进行超表面建模,对构建的第一超表面模型进行仿真计算,得到第一衍射图像,包括:

6...

【专利技术属性】
技术研发人员:梁丹孟瑶范静涛
申请(专利权)人:启元实验室
类型:发明
国别省市:

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