【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体工艺设备,具体涉及一种晶圆顶升托盘、晶圆顶升装置及晶圆转移装置。
技术介绍
1、晶圆加工过程中,涉及多种处理工艺,当需要将晶圆转移至不同的处理工艺中时,常常通过顶升机构将载具内的晶圆顶升至夹取位置,然后机械手对夹取位置的晶圆进行夹取,并将夹取后的晶圆转移至相应的处理工艺中。
2、现有的顶升机构包括顶升驱动件和承载件,顶升驱动件与承载件连接,顶升驱动件能够带动承载件升降,承载件具有倒梯形槽。在晶圆顶升过程中,顶升驱动件带动承载件上升,以使得倒梯形槽的底部与晶圆抵接,此时,顶升驱动件继续带动承载件上升,以带动倒梯形槽内的晶圆上升,直至晶圆上升至夹取位置,然后通过机械手对夹取位置内的晶圆夹取并转移。然而由于晶圆与倒梯形槽内壁之间存在间隙,因此晶圆在上升过程中容易出现晃动,从而导致晶圆的位置发生偏移,进而使得机械手无法在夹取位置准确夹取晶圆。
技术实现思路
1、有鉴于此,本技术提供了一种晶圆顶升托盘、晶圆顶升装置及晶圆转移装置,以解决相关技术中晶圆与倒梯形槽内壁之间存在
...【技术保护点】
1.一种晶圆顶升托盘,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的晶圆顶升托盘,其特征在于,所述第一限位面(211)的最大高度和所述第二限位面(213)的最大高度均小于晶圆边缘去除区域(31)的宽度。
3.根据权利要求1所述的晶圆顶升托盘,其特征在于,所述第一限位面(211)和第二限位面(213)均垂直于所述抵接面(212);和/或
4.根据权利要求1-3中任一项所述的晶圆顶升托盘,其特征在于,所述限位部(21)为凹槽,所述限位部(21)还包括:
5.根据权利要求4所述的晶圆顶升托盘,其特征在于,所述第一导向面(214)
...【技术特征摘要】
1.一种晶圆顶升托盘,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的晶圆顶升托盘,其特征在于,所述第一限位面(211)的最大高度和所述第二限位面(213)的最大高度均小于晶圆边缘去除区域(31)的宽度。
3.根据权利要求1所述的晶圆顶升托盘,其特征在于,所述第一限位面(211)和第二限位面(213)均垂直于所述抵接面(212);和/或
4.根据权利要求1-3中任一项所述的晶圆顶升托盘,其特征在于,所述限位部(21)为凹槽,所述限位部(21)还包括:
5.根据权利要求4所述的晶圆顶升托盘,其特征在于,所述第一导向面(214)和所述第二导向面(215)的最小间距等于所述第一限位面(211)和所述第二限位面(213)的间距。
【专利技术属性】
技术研发人员:李鹏,邵玉林,请求不公布姓名,王佳伟,请求不公布姓名,
申请(专利权)人:无锡琨圣芯成科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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