【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体封装,尤其是指一种硅桥嵌入的扇出封装结构及其封装方法。
技术介绍
1、高性能计算、人工智能、5g通信和云计算的快速发展使芯片制程节点持续演进,短沟道效应以及量子隧穿效应带来的发热、漏电问题愈发严重,设计及制造成本不断上升,追求经济效能的摩尔定律日趋放缓。chiplet(芯片模块化)技术应运而生,将单颗复杂片上系统级芯片(soc)离散成多颗特定功能的小芯片,通过系统级集成封装技术整合在一起构成多功能的异构系统级封装,以提高器件算力,缩短产品开发周期,提升产品良率,降低系统成本,实现更高的可扩展性和灵活性。行业内最早的chiplet技术为台积电推出的cowos(chip on wafer on substrate)封装技术,cowos的出现有效解决了多芯片间高密度、短距离的互连问题,但也大大提高了封装集成工艺成本。为解决硅转接板带来的成本问题,桥接技术出现在了大众视野中。首先,目前芯粒异构集成需求中,芯粒间高密度互连涉及的信号区域通常为很小的局域的范围,没有必要在整个基板或者转接板上开发精细化布线技术。其次,通过桥接互连
...【技术保护点】
1.一种硅桥嵌入的扇出封装结构,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的一种硅桥嵌入的扇出封装结构,其特征在于,所述装片层为装片膜或装片胶。
3.根据权利要求1所述的一种硅桥嵌入的扇出封装结构,其特征在于,相邻两个所述芯粒(101)之间的间距大于50μm。
4.根据权利要求1所述的一种硅桥嵌入的扇出封装结构,其特征在于,所述第二金属凸块(103)与所述硅桥芯片(202)背面之间的高度差大于20μm。
5.根据权利要求1所述的一种硅桥嵌入的扇出封装结构,其特征在于,所述第一金属凸块(102)和/或所述第二金属凸块(10
...【技术特征摘要】
1.一种硅桥嵌入的扇出封装结构,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的一种硅桥嵌入的扇出封装结构,其特征在于,所述装片层为装片膜或装片胶。
3.根据权利要求1所述的一种硅桥嵌入的扇出封装结构,其特征在于,相邻两个所述芯粒(101)之间的间距大于50μm。
4.根据权利要求1所述的一种硅桥嵌入的扇出封装结构,其特征在于,所述第二金属凸块(103)与所述硅桥芯片(202)背面之间的高度差大于20μm。
5.根据权利要求1所述的一种硅桥嵌入的扇出封装结构,其特征在于,所述第一金属凸块(102)和/或所述第二金属凸块(103)的材料包括cu、cusn、cunisn或cunisnag。
6.一种硅桥嵌入的扇出封装方法,其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员:张爱兵,李轶楠,姚昕,
申请(专利权)人:无锡中微高科电子有限公司,
类型:发明
国别省市:
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