【技术实现步骤摘要】
本申请属于半导体，尤其涉及一种压力控制方法、装置及半导体工艺设备。
技术介绍
1、在半导体制造、光伏等领域，处处存在真空环境，绝大部分工艺都是在反应腔室内进行，反应腔室内的压力大于或小于设定压力都会影响产品的工艺质量，因此必须确保反应腔室内的压力稳定。
2、相关技术中，采用位置压力(pressure to location，简称ptl)策略，对反应腔室内的压力进行控制，具体如下：先进行开环调节，即根据设定压力，控制压力调节阀按照压力位置模板运动到相应开度位置，然后结束开环调节，进行闭环调节，即根据反应腔室内的测量压力和设定压力的差值，对压力调节阀进行闭环调节。但上述方式，在开环调节，若反应腔室内的反应气体流量与压力位置模板对应的流量一致，则结束开环调节时，虽然压力调节阀运动到了相应开度位置，但反应腔室内的压力尚未达到设定压力，存在压力滞后的问题，若反应腔室内的反应气体流量与压力位置模板对应的流量不一致，如果不及时更新压力位置模板，则会存在压力滞后或压力提前(尚未结束开环调节时，压力调节阀尚未运动到相应开度位置，但反应腔室内的...
【技术保护点】
1.一种压力控制方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述测量压力和所述设定压力确定压力调节阀的运动方向，包括：
3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述根据所述测量压力和所述设定压力确定压力调节阀的运动方向，并控制所述压力调节阀沿所述运动方向运动，包括：
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述设定范围为所述设定压力的设定倍数。
5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述设定倍数的取值范围为0至0.1。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述...
【技术特征摘要】
1.一种压力控制方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述测量压力和所述设定压力确定压力调节阀的运动方向，包括：
3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述根据所述测量压力和所述设定压力确定压力调节阀的运动方向，并控制所述压力调节阀沿所述运动方向运动，包括：
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述设定范围为所述设定压力的设定倍数。
5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述设定倍数的取值范围为0至0.1。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述测量压力和所述设定压力，对所述压力调节阀进行闭环调节，包括：
7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述测量压力和所述设定压力，对所述压力调节阀进行闭环调节，包括：
8.根据权...
【专利技术属性】
技术研发人员：郑文宁，赵迪，董策，吴昊，曹洋涌，
申请(专利权)人：北京华丞电子有限公司，
类型：发明
国别省市：
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