下载压力控制方法、装置及半导体工艺设备的技术资料

文档序号:42899323

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

本申请公开了一种压力控制方法、装置及半导体工艺设备。其中,该方法包括:获取反应腔室的设定压力和测量压力;若测量压力和设定压力不一致,则根据测量压力和设定压力确定压力调节阀的运动方向,并控制压力调节阀沿运动方向运动;在压力调节阀的运动过程中,...
该专利属于北京华丞电子有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过北京华丞电子有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。