一种红外增透减反射膜及其制备方法与应用技术

本发明专利技术涉及一种红外增透减反射膜及其制备方法与应用，属于光学薄膜技术领域，所述制备方法包括如下步骤：(1)基底表面原子层沉积氧化铝层；(2)步骤(1)所得氧化铝层进行浸泡处理，浸泡处理完成后进行烘干，得到所述红外增透减反射膜。本发明专利技术采用原子层沉积的方法制备氧化铝层，该方法适用于形状复杂且曲率较大的基底，且能够在形状复杂、曲率较大的基底表面制备厚度均匀的氧化铝膜，降低了物料的生成成本。而浸泡处理环保清洁、简单易控，在烘干过程中利用材料的自组装特性制备生成方向一致的微纳米涂层结构，从而达到增透减反的效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光学薄膜，涉及一种减反射膜，尤其涉及一种红外增透减反射膜及其制备方法与应用。

技术介绍

1、表面反射光会造成两个不良的后果：一是光能量的损耗，从而降低器件的光利用效率或成像的明亮程度，二是反射光成为杂散光，造成光污染或降低像的衬度。通过在表面镀减反射膜，可以降低表面反射，从而提升器件效率或光学系统成像质量，并减少日常生活中的光污染。

2、目前，制备减反射膜的方法包括物理法与化学法。

3、例如，cn114351098a公开了一种宽带高透过单层alf3减反射膜的制备方法，包括以下步骤：sf6/ar2气体流量比设置、溅射工作压力设置，射频电源功率设置；以alf3作为靶材，以ar2作为工作气体，sf6作为反应气体，使用仪器的气路混合装置将气体充分混合，通过调整溅射时sf6/ar2气体流量比值，改善了沉积alf3薄膜中f贫乏缺陷的问题，通过调整工作压力和射频电源功率使得alf3薄膜f:al的化学计量比接近于正常化学计量比值3:1，降低了薄膜的折射率，提高了透过率。

4、cn114277343a公开了一种宽带高透过al本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种红外增透减反射膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)所述浸泡处理为水浸泡处理。

3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)所述浸泡处理的温度为60-100℃，时间为10-100min。

4.根据权利要求1-3任一项所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)所述烘干的温度为80-90℃，时间为5-60min。

5.根据权利要求1-4任一项所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)所得氧化铝层的厚度为50-200nm。

6.根据权利要求1-5任...

【技术特征摘要】

1.一种红外增透减反射膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)所述浸泡处理为水浸泡处理。

3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)所述浸泡处理的温度为60-100℃，时间为10-100min。

4.根据权利要求1-3任一项所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)所述烘干的温度为80-90℃，时间为5-60min。

5.根据权利要求1-4任一项所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)所得氧化铝层的厚度为50-200n...

【专利技术属性】
技术研发人员：张忠俊，庄明宇，
申请(专利权)人：光驰半导体技术上海有限公司，
类型：发明
国别省市：