硒化锌基膜系及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种硒化锌基膜系，包括硒化锌基底，在硒化锌基底的第一面上依次设置的第一YbF<subgt;3</subgt;膜、第一ZnSe膜、第二YbF<subgt;3</subgt;膜、第二ZnSe膜、第三YbF<subgt;3</subgt;膜和第三ZnSe膜，在硒化锌基底第二面上依次设置的第四YbF<subgt;3</subgt;膜和第四ZnSe膜，并设置各膜层厚度，提供的硒化锌基膜系对650nm波长的光的反射率高达96.5%以上，红外波长10.6μm的光的透过率高达99%以上，且膜层厚度薄，膜层之间的结合力较好。还公开了上述硒化锌基膜系的制备方法，通过调整制备工艺和各个工艺参数，提高各膜层之间的结合力，提高膜系结构的耐久性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光学镀膜，具体地，涉及硒化锌基膜系及其制备方法。

技术介绍

1、硒化锌(znse)是一种非常好的红外材料，它透光范围宽，不仅对红外波长具有低吸收性，还可透射可见光，是制作红外透镜、窗口、输出耦合镜和扩束镜的优质材料，透光范围覆盖0.5微米至19微米。由于其具有良好的成像特性和热冲击特性，常被用来做二氧化碳激光器的透镜和窗口。

2、随着用户对于应用需求的不断扩展，对膜系设计及制备带来了新的挑战，需要满足光学新需求，还对耐久性提出了较高要求。因而对于镀膜材料的选取、膜系的设计、镀膜工艺的具体流程的改进增加难度。

技术实现思路

1、针对上述技术问题，本申请提供一种硒化锌基膜系及其制备方法。

2、为实现上述目的，本申请提出如下解决方案：

3、第一方面，提供一种硒化锌基膜系，包括硒化锌基底，基底第一面上依次设置的第一ybf3膜、第一znse膜、第二ybf3膜、第二znse膜、第三ybf3膜和第三znse膜，以及基底第二面上依次设置的第四ybf3膜和第四znse膜；所述第本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.硒化锌基膜系，其特征在于，包括硒化锌基底，基底第一面上依次设置的第一YbF3膜、第一ZnSe膜、第二YbF3膜、第二ZnSe膜、第三YbF3膜和第三ZnSe膜，以及基底第二面上依次设置的第四YbF3膜和第四ZnSe膜；所述第一YbF3膜的厚度为783nm，所述第一ZnSe膜的厚度为209nm，所述第二YbF3膜的厚度为136nm，所述第二ZnSe膜的厚度为50nm，所述第三YbF3膜的厚度为128.6nm，所述第三ZnSe膜的厚度为50nm，所述第四YbF3膜的厚度为1023nm，所述第四ZnSe膜的厚度为232nm。

2.如权利要求1或2所述的硒化锌基膜系，其特征在于，...

【技术特征摘要】

1.硒化锌基膜系，其特征在于，包括硒化锌基底，基底第一面上依次设置的第一ybf3膜、第一znse膜、第二ybf3膜、第二znse膜、第三ybf3膜和第三znse膜，以及基底第二面上依次设置的第四ybf3膜和第四znse膜；所述第一ybf3膜的厚度为783nm，所述第一znse膜的厚度为209nm，所述第二ybf3膜的厚度为136nm，所述第二znse膜的厚度为50nm，所述第三ybf3膜的厚度为128.6nm，所述第三znse膜的厚度为50nm，所述第四ybf3膜的厚度为1023nm，所述第四znse膜的厚度为232nm。

2.如权利要求1或2所述的硒化锌基膜系，其特征在于，所述膜系10.6μm处波长的透过率为99%以上，650nm处波长的反射率为96.5%以上；

3.如权利要求1或2所述的硒化锌基膜系的制备方法，其特征在于，包括：

4.如权利要求3所述的硒化锌基膜系的制备方法，其特征在于，所述第一ybf3膜、第二

5.如权利要求3所述的硒化锌基膜系的制备方法，其特征在于，所述第一z...

【专利技术属性】
技术研发人员：梁献波，刘梦佳，刘克武，张海燕，
申请(专利权)人：安徽光智科技有限公司，
类型：发明
国别省市：