【技术实现步骤摘要】
本技术属于半导体制造,具体是涉及一种新型ald镀膜防绕镀夹具。
技术介绍
1、目前在半导体制程中,随着芯片制程精度不断提高,随着光伏产业的规模化和光伏技术的迅速发展,ald技术,即原子层沉积技术成为光伏产品降本增效的有效途径。ald镀膜凭借膜厚控制精确,披覆性好,异形结构填充完整及填缝能力强已逐渐称为主流镀膜设备,但是在部分工艺及光学产品中,往往只需要单面镀膜,碍于ald镀膜工艺特点,晶圆或产品在腔体内不能和夹具紧密贴合,会导致绕镀的问题产生,所谓绕镀是指处理晶圆(硅片)单一表面时另一表面的部分区域会被处理到,而这是需要避免的,影响后续制程或增加工序,ald镀膜目前在晶圆上基本都是双面镀膜,部分工艺需要单面镀膜,目前没有好的载具保证单面镀膜良品率以及绕镀问题,且单个载具只能用于晶圆的单面或双面镀膜作业中,载具通用性差,增加制造成本。
2、中国专利cn218465937u提出了一种ald镀膜载具,包括有:主体,所述主体上设有相互贯穿的置放槽和插槽,所述置放槽用于置放晶圆;防绕镀板,与所述主体可拆卸连接,当所述防绕镀板与所述主体
...【技术保护点】
1.一种新型ALD镀膜防绕镀夹具,包括有ALD镀膜机(1),ALD镀膜机(1)内部安装有呈竖直方向排列若干个可推拉的横板(2),横板(2)上设置有镀膜夹具(3),其特征在于,镀膜夹具(3)包括有:
2.根据权利要求1所述一种新型ALD镀膜防绕镀夹具,其特征在于,上盖(3b)还包括有设置在顶部的呈矩阵排列的晶圆槽(3b1),晶圆槽(3b1)内安装有垫片(3b2)。
3.根据权利要求2所述一种新型ALD镀膜防绕镀夹具,其特征在于,横板(2)的两侧均设置有滑块(2a),ALD镀膜机(1)内侧呈竖直方向设置有竖板(5),竖板(5)上设置有滑轨(5a),
...【技术特征摘要】
1.一种新型ald镀膜防绕镀夹具,包括有ald镀膜机(1),ald镀膜机(1)内部安装有呈竖直方向排列若干个可推拉的横板(2),横板(2)上设置有镀膜夹具(3),其特征在于,镀膜夹具(3)包括有:
2.根据权利要求1所述一种新型ald镀膜防绕镀夹具,其特征在于,上盖(3b)还包括有设置在顶部的呈矩阵排列的晶圆槽(3b1),晶圆槽(3b1)内安装有垫片(3b2)。
3.根据权利要求2所述一种新型ald镀膜防绕镀夹具,其特征在于,横板(2)的两侧均设置有滑块(2a),ald镀膜机(1)内侧呈竖直方向设置有竖板...
【专利技术属性】
技术研发人员:戴兴旺,
申请(专利权)人:浙江优众新材料科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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