【技术实现步骤摘要】
本申请涉及光刻，尤其涉及一种表面活性剂、显影液及其应用和制备方法、半导体器件。
技术介绍
1、在半导体集成电路的光刻工艺中，在光刻胶曝光之后，采用显影液将曝光区域的光刻胶进行洗除。
2、显影液的组分决定了曝光区域的光刻胶的溶解能力，进而决定了显影图案的质量。
3、在相关技术中，除了显影液的主要成分以外，还会添加表面活性剂以改善显影液的浸润性能，进一步改善显影液的溶解能力。但是，虽然表面活性剂的增加，一些表面活性剂在显影过程中容易产生泡沫而影响显影效果，一些表面活性剂会增加对非曝光区的光刻胶的溶解度而影响显影效果。
4、所以如何既发挥表面活性剂对显影液的改善，同时又避免表面活性剂带来的影响为本领域亟待解决的问题。
技术实现思路
1、本申请实施例提供一种表面活性剂、显影液及其应用和制备方法，以至少部分的解决上述技术问题。
2、为了实现上述目的，根据本申请的第一方面，提供一种表面活性剂，所述表面活性剂按照质量份数包括：
3、聚氧乙烯油醚...
【技术保护点】
1.一种表面活性剂，其特征在于，
2.根据权利要求1所述的表面活性剂，其特征在于，
3.根据权利要求1或2所述的表面活性剂，其特征在于，
4.根据权利要求3所述的表面活性剂，其特征在于，
5.根据权利要求4所述的表面活性剂，其特征在于，
6.根据权利要求5所述的表面活性剂，其特征在于，
7.根据权利要求3所述的表面活性剂，其特征在于，
8.根据权利要求7所述的表面活性剂，其特征在于，
9.根据权利要求7或8所述的表面活性剂，其特征在于，
10.根据权利要求1或2...
【技术特征摘要】
1.一种表面活性剂，其特征在于，
2.根据权利要求1所述的表面活性剂，其特征在于，
3.根据权利要求1或2所述的表面活性剂，其特征在于，
4.根据权利要求3所述的表面活性剂，其特征在于，
5.根据权利要求4所述的表面活性剂，其特征在于，
6.根据权利要求5所述的表面活性剂，其特征在于，
7.根据权利要求3所述的表面活性剂，其特征在于，
8.根据权利要求7所述的表面活性剂，其特征在于，
9.根据权利要求7或8所述的表面活性剂，其特征在于，
10.根据权利要求1或2所述的表...
【专利技术属性】
技术研发人员：谭敏，段平平，陈琪，梁骏，
申请(专利权)人：比亚迪股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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