【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及太阳电池领域,具体地说是一种铜基太阳电池的n型层、其制备方法及应用。
技术介绍
1、一部分的科学研究重心已聚焦在潮汐能、风能、地热能和太阳能等这些可再生能源的开发与利用上。其中,光伏发电是国际公认的极具发展潜力的新能源产业,而组成光伏器件的材料体内及界面处的载流子复合问题也一直是太阳电池研究的重点之一。薄膜层的能带匹配是收集载流子的一个关键,尽管研究者们对p型层给予了更多的关注和研究,但组成pn结结构中的n型层,包括其材料物相、缺陷、能带结构等,也是提升半导体薄膜太阳电池转换效率和推动光伏器件产业化所不容忽视的一个关键因素。目前太阳电池中的n型层存在如下问题:(1)透过率低和光谱范围窄,影响光生载流子浓度;(2)导电性差,材料电阻高,导致电池串联电阻高;(3)n型层与缓冲层/p型层之间的能带不匹配,阻挡电流传输。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是提供一种铜基太阳电池的n型层、其制备方法及应用,本专利技术通过同时沉积氧化锌和二氧化硅获得n型层并将其应用于铜基太阳电池中,该工
...【技术保护点】
1.一种铜基太阳电池的N型层,其特征在于,该N型层是通过同时沉积氧化锌和二氧化硅而获得。
2.根据权利要求1所述的铜基太阳电池的N型层,其特征在于,所述N型层厚度为10~500nm。
3.一种铜基太阳电池的N型层的制备方法,其特征在于,采用磁控溅射法、共蒸发法或非真空法同时沉积氧化锌和二氧化硅获得铜基太阳电池的N型层。
4.根据权利要求3所述的铜基太阳电池的N型层的制备方法,其特征在于,采用磁控溅射法共同溅射氧化锌靶和二氧化硅靶实现氧化锌和二氧化硅的同时沉积,氧化锌靶和二氧化硅靶的溅射功率为10~150W。
5.根据权利
...【技术特征摘要】
1.一种铜基太阳电池的n型层,其特征在于,该n型层是通过同时沉积氧化锌和二氧化硅而获得。
2.根据权利要求1所述的铜基太阳电池的n型层,其特征在于,所述n型层厚度为10~500nm。
3.一种铜基太阳电池的n型层的制备方法,其特征在于,采用磁控溅射法、共蒸发法或非真空法同时沉积氧化锌和二氧化硅获得铜基太阳电池的n型层。
4.根据权利要求3所述的铜基太阳电池的n型层的制备方法,其特征在于,采用磁控溅射法共同溅射氧化锌靶和二氧化硅靶实现氧化锌和二氧化硅的同时沉积,氧化锌靶和二氧化硅靶的溅射功率为10~150w。
5.根据权利要求4所述的铜基太阳电池的n型层的制备方法,其特征在于,氧化锌靶的溅射功率为75w,二氧化硅靶的溅射功率为30~50w。
6.权利要求1~2所述的n型层以及依据权利要求3~5任一项所述方法所制备的n型层在铜基太阳电池中的应用。
7.根据权利要求6所述的应用,其特征...
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