一种化学气相沉积设备水冷式进气结构制造技术

本申请涉及一种化学气相沉积设备水冷式进气结构，其包括进气管，一端为与反应室连通的进气口，另一端为与原料气源连通的转接口；延伸套管，一端与所述进气口连接，另一端与反应室上盖连接，所述延伸套管与所述进气管同轴设置并且所述延伸套管的内径大于所述进气管的外径；保温层，所述进气口伸入所述保温层内部，且所述进气管与所述延伸套管结合点也位于所述保温层内；水冷件，设置在所述进气管外，且所述水冷件内用于通入冷却水；气流分割件，所述气流分割件设置在所述反应室上盖的下方并且位于原料气源从延伸套管进入反应室的流动路径上。本申请具有减少原料在进气口堵塞造成原料浪费的效果。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及化学气相沉积设备的领域，尤其是涉及一种化学气相沉积设备水冷式进气结构。

技术介绍

1、目前化学气相沉积设备通常采用进气管直接插入反应室的方式将原料气体送入反应室。进气口温度较高，达到了原料的反应温度，材料就会在进气口生长，由于进气口原料浓度比较大，因此反应速度往往会很快。这种现象首先造成了原料浪费，增加了成本，同时也会导致进气口快速堵塞，无法进行长时间稳定生产，极大阻碍了化学气相沉积技术的发展。

技术实现思路

1、为了减少原料气源在进气口位置堵塞，本申请提供一种化学气相沉积设备水冷式进气结构。

2、本申请提供的一种化学气相沉积设备水冷式进气结构采用如下的技术方案：

3、一种化学气相沉积设备水冷式进气结构，包括：

4、进气管，一端为与反应室连通的进气口，另一端为与原料气源连通的转接口；

5、延伸套管，一端与所述进气口连接，另一端与反应室上盖连接，所述延伸套管与所述进气管同轴设置并且所述延伸套管的内径大于所述进气管的外径；

6、保温层，所述进气本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种化学气相沉积设备水冷式进气结构，其特征在于：包括：

2.根据权利要求1所述的化学气相沉积设备水冷式进气结构，其特征在于：所述延伸套管(2)呈从靠近所述进气管(1)一端到靠近所述反应室上盖(12)一端内径逐渐增加的喇叭状。

3.根据权利要求1所述的化学气相沉积设备水冷式进气结构，其特征在于：所述进气管(1)与所述延伸套管(2)连接的一端设置有变径段(6)，所述进气管(1)的内径<所述变径段(6)的内径<所述延伸套管(2)的内径。

4.根据权利要求1所述的化学气相沉积设备水冷式进气结构，其特征在于：所述进气管(1)与所述延伸套管(2)之...

【技术特征摘要】

1.一种化学气相沉积设备水冷式进气结构，其特征在于：包括：

2.根据权利要求1所述的化学气相沉积设备水冷式进气结构，其特征在于：所述延伸套管(2)呈从靠近所述进气管(1)一端到靠近所述反应室上盖(12)一端内径逐渐增加的喇叭状。

3.根据权利要求1所述的化学气相沉积设备水冷式进气结构，其特征在于：所述进气管(1)与所述延伸套管(2)连接的一端设置有变径段(6)，所述进气管(1)的内径<所述变径段(6)的内径<所述延伸套管(2)的内径。

4.根据权利要求1所述的化学气相沉积设备水冷式进气结构，其特征在于：所述进气管(1)与所述延伸套管(2)之间为间隙配合，所述延伸套管(2)可沿所述进气管(1)滑动。

5.根据权利要求1所述的化学气相沉积设备水冷式进气结构，其特征在于：所述气流分隔件包括固定在所述延伸套管(2)顶板上的两根吊杆(41)以及连接在两根所述吊杆(41)尾端的进气挡板(43)，所述进气挡板(43)水平或者倾斜在所述延伸套管(2)的下方。

6.根据权利要求5所述的化学气相沉积设备水冷式进气结构，其特征在于：所述进气挡板(43)包括中部的分割段(431)以及位于所述分割段(...

【专利技术属性】
技术研发人员：贺傲峰，尹翔，王青春，
申请(专利权)人：北京北方华创真空技术有限公司，
类型：发明
国别省市：