【技术实现步骤摘要】
本公开大体上涉及一种用于处理半导体晶片的设备。更具体地，本公开涉及一种设备中的容器，用于从液体源提供汽化的气体前体，该液体源用于在例如原子层沉积(ald)工艺、化学气相沉积(cvd)工艺，或外延沉积工艺中将膜沉积在半导体晶片上。
技术介绍
1、在膜沉积系统中，气体在半导体晶片上流动，由此气体可与其它气态前体反应以便形成特定膜。气体可以由容器中的蒸发液体产生。
2、容器可以包括再填充管线以确保容器具有提供必需量的气态前体所需的足够量的液体源。容器可以填充有附接到汲取管的入口阀。容器还可以具有出口阀，气体或液体可以通过该出口阀离开容器。这样的容器的实例可能在标题为“用于化学气相沉积的试剂供应容器(reagent supply vessel for chemical vapor deposition)”的美国专利号6,077,356中公开，该专利以引用的方式并入本文中。容器可包含汲取管以及液位传感器。
3、图1中示出了本领域已知的化学容器100。化学容器100包括容器壳体110、液位传感器管120、多个液位传感器130...
【技术保护点】
1.一种用于提供化学前体的化学容器，所述化学容器包括：
2.根据权利要求1所述的化学容器，其中所述液位传感器管包括多个液位传感器，其指示化学前体在容器壳体内的液位。
3.根据权利要求2所述的化学容器，其中，多个液位传感器的每一个设置在所述液位传感器管上的不同位置处。
4.根据权利要求3所述的化学容器，其中，所述多个液位传感器中的一个设置在所述沉孔中。
5.根据权利要求4所述的化学容器，其中，所述多个液位传感器中的一个设置在所述沉孔的顶部。
6.根据权利要求1所述的化学容器，其还包括：
7.根据权利...
【技术特征摘要】
1.一种用于提供化学前体的化学容器，所述化学容器包括：
2.根据权利要求1所述的化学容器，其中所述液位传感器管包括多个液位传感器，其指示化学前体在容器壳体内的液位。
3.根据权利要求2所述的化学容器，其中，多个液位传感器的每一个设置在所述液位传感器管上的不同位置处。
4.根据权利要求3所述的化学容器，其中，所述多个液位传感器中的一个设置在所述沉孔中。
5.根据权利要求4所述的化...
【专利技术属性】
技术研发人员：A·M·耶德纳克三世，T·R·邓恩，
申请(专利权)人：ASMIP私人控股有限公司，
类型：发明
国别省市：
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