【技术实现步骤摘要】
本技术涉及硅片清洗，具体涉及一种硅片清洗装置及硅片清洗设备。
技术介绍
1、目前用于晶硅太阳能电池生产的硅片一般是经硅棒线切得到，晶硅太阳能电池所用的硅片经过线切后，需要经过清洗才能用于制作太阳能电池。传统的插片及清洗设备采用横插竖洗，需要将硅片插入到花篮中，由花篮携带硅片进入到超声清洗设备中对硅片进行清洗，而随着硅片的厚度越来越薄，将硅片插入到花篮的难度越来越高，在将硅片插进花篮的过程中容易造成碎片，导致良品率较低，同时，在超声清洗过程中，超声波的振动也可能会造成碎片。
技术实现思路
1、因此，本技术要解决的技术问题在于克服现有技术中硅片在单独清洗过程中，需要进行插片，而在插片时易发生碎片，造成硅片良品率低，同时，超声波的振动也可能会造成碎片的缺陷，从而提供一种硅片清洗装置及硅片清洗设备。
2、为解决上述技术问题，本技术提供了一种硅片清洗装置，包括：支架、输送机构、顶部喷淋机构和底部喷淋机构，其中：所述输送机构，包括下滚轮组件和上滚轮组件，所述下滚轮组件和所述上滚轮组件均沿水...
【技术保护点】
1.一种硅片清洗装置，其特征在于，包括：支架、输送机构、顶部喷淋机构和底部喷淋机构，其中：
2.根据权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述支架上沿着硅片输送方向的两侧上伸出有若干安装板，所述输送机构和所述顶部喷淋机构均分别通过所述安装板安装在所述支架上，所述底部喷淋机构与所述支架直接固定。
3.根据权利要求2所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述下滚轮组件具有并排设置的多个滚轮，用于支撑并输送硅片；
4.根据权利要求3所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述轴两端分别与所述安装板连接。
5.根据权利要求4所述的硅片清洗...
【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗装置，其特征在于，包括：支架、输送机构、顶部喷淋机构和底部喷淋机构，其中：
2.根据权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述支架上沿着硅片输送方向的两侧上伸出有若干安装板，所述输送机构和所述顶部喷淋机构均分别通过所述安装板安装在所述支架上，所述底部喷淋机构与所述支架直接固定。
3.根据权利要求2所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述下滚轮组件具有并排设置的多个滚轮，用于支撑并输送硅片；
4.根据权利要求3所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述轴两端分别与所述安装板连接。
5.根据权利要求4所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述顶部喷淋机构包括至少一个喷淋杆，所述喷淋杆两端安装在其中一对相对设置的所述安装板上。
6.根据权利要求5所...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱伟，谢宇宽，季建，
申请(专利权)人：安徽华晟新材料有限公司，
类型：新型
国别省市：
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