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本技术提供了一种硅片清洗装置及硅片清洗设备，涉及硅片清洗技术领域。硅片清洗装置包括：支架、输送机构、顶部喷淋机构和底部喷淋机构，其中，输送机构，包括下滚轮组件和上滚轮组件，下滚轮组件和上滚轮组件均沿水平方向安装于支架上，上滚轮组件与下滚轮组...
该专利属于安徽华晟新材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安徽华晟新材料有限公司授权不得商用。

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