一种一体式离子源腔体制造技术

本技术提供一种一体式离子源腔体，属于医疗器械技术领域，以解决现有的离子源腔体拆下后，离子源腔体的观察窗存在被碰伤损坏的风险的问题，包括离子源腔主体、安装端、密封端、密封盖连接件、观察窗、遮挡防护板、安装辅助机构和清洁防护机构；所述安装端固定连接在离子源腔主体的后端；所述密封端固定连接在离子源腔主体的前端；所述密封盖连接件分别固定连接在密封端的前端下方左右两侧；所述观察窗设置在离子源腔主体的中间位置上方；所述遮挡防护板分别滑动连接在离子源腔主体的上方内部；所述安装辅助机构设置在离子源腔主体的外侧；所述清洁防护机构设置在离子源腔主体的内部，避免了外界杂物磕碰观察窗，保证了离子源腔体的完整。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于医疗器械，更具体地说，特别涉及一种一体式离子源腔体。

技术介绍

1、质谱仪在医疗行业经常被用来对药物进行分离和检测不同同位素，现有的质谱仪一般由离子源、质量分析器和离子检测器为核心，在质谱仪使用时，一般是使用离子源腔体对离子提供一个无碰撞的真空轨道，质谱仪的离子源在长时间使用中，在液质分析中，大量的或过浓的样品分析，会导致在锥孔处污染物的堆积和离子源通道离子轰击的沉积物痕迹，所以需要定期对离子源进行清理。

2、现有申请号为：cn202210467725.6本专利技术公开了一种离子源腔体，包括腔体本体，所述腔体本体内设有底部开口的内腔，任意水平面在所述内腔上截得的廓线为方形；所述腔体本体的底部开口形成底孔，所述腔体本体的顶面上设有与所述内腔相连通的顶孔，所述底孔的面积大于等于任意水平面在所述内腔上截得的方形廓线围成的面积。本专利技术还公开了一种离子源和质谱仪。本专利技术的离子源腔体，抽真空时，顶孔上方安装的飞行管内的空气经顶孔进入腔体内，腔体内的气体通过底孔再经下方的真空腔室排出，由于底孔的面积更大且内腔与底孔之间无死角，保证真空腔室内本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种一体式离子源腔体，包括离子源腔主体、安装端、密封端、密封盖连接件、观察窗、遮挡防护板、安装辅助机构和清洁防护机构；其特征在于：所述安装端固定连接在离子源腔主体的后端；所述密封端固定连接在离子源腔主体的前端；所述密封盖连接件共设置两组，两组密封盖连接件分别固定连接在密封端的前端下方左右两侧；所述观察窗设置在离子源腔主体的中间位置上方，观察窗的内部设置有玻璃结构；所述遮挡防护板共设置两组，两组遮挡防护板分别滑动连接在离子源腔主体的上方内部；所述安装辅助机构设置在离子源腔主体的外侧；所述清洁防护机构设置在离子源腔主体的内部。

2.如权利要求1所述一种一体式离子源腔体，其特征...

【技术特征摘要】

1.一种一体式离子源腔体，包括离子源腔主体、安装端、密封端、密封盖连接件、观察窗、遮挡防护板、安装辅助机构和清洁防护机构；其特征在于：所述安装端固定连接在离子源腔主体的后端；所述密封端固定连接在离子源腔主体的前端；所述密封盖连接件共设置两组，两组密封盖连接件分别固定连接在密封端的前端下方左右两侧；所述观察窗设置在离子源腔主体的中间位置上方，观察窗的内部设置有玻璃结构；所述遮挡防护板共设置两组，两组遮挡防护板分别滑动连接在离子源腔主体的上方内部；所述安装辅助机构设置在离子源腔主体的外侧；所述清洁防护机构设置在离子源腔主体的内部。

2.如权利要求1所述一种一体式离子源腔体，其特征在于：所述安装辅助机构包括有：喷砂防护件；所述喷砂防护件共设置两组，其中一组喷砂防护件固定连接在安装端的上方内侧，另一组喷砂防护件固定连接在密封端的上方内侧。

3.如权利要求1所述一种一体式离子源腔体，其特征在于：所述安装辅助机构还包括有：密封圈；所述密封圈为圆环状橡胶圈结构，密封圈固定连接在密封端的前方。

4.如权利要求1所述一种一体式离子源腔体，其特征在于：所述清洁防护机构包括有：清洁触发杆；所述清洁触发杆滑动连接在离子源腔主体的后方上端，清洁触发杆与安装端滑动连接。

5.如权利要求4所述一种一体式离子源腔体，其特征在于：所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：张苏洋，
申请(专利权)人：麦孚思科技苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：