System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 彩膜基板及其制备方法、掩膜版及其制备方法、彩膜母板技术_技高网

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彩膜基板及其制备方法、掩膜版及其制备方法、彩膜母板技术

技术编号：42654544 阅读：17 留言：0更新日期：2024-09-06 01:46

一种彩膜基板及其制备方法、掩膜版及其制备方法、彩膜母板，属于显示技术领域。掩膜版(MK)用于制备彩膜基板的支撑柱层(PSL)，其中，掩膜版(MK)包括多个曝光区(PSA)和围绕曝光区(PSA)的遮光区(SHL)。至少部分曝光区(PSA)，包括同中心设置的补偿区和透光区；补偿区的外轮廓在透光区的外轮廓以内；透光区的透光率大于补偿区的透光率。

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【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

技术介绍

技术实现思路

【技术保护点】

PCT国内申请，权利要求书已公开。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

pct国内申请，权...

【专利技术属性】
技术研发人员：石臻，谢建云，方业周，王凤国，李永生，王波，蔚国将，张世龙，苗伟，郑伟，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：

全部详细技术资料下载我是这个专利的主人

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