发光基板和虚拟显示装置制造方法及图纸

提供一种发光基板和虚拟显示装置。发光基板包括光源(LS)；第一光调制层(LM1)，其具有位于靠近所述光源(LS)的一侧的第一微结构；以及第二光调制层(LM2)，其具有位于远离所述光源(LS)的一侧的第二微结构。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及显示技术，尤其涉及一种发光基板和虚拟显示装置。

技术介绍

1、虚拟现实技术是基于沉浸和想象的技术。虚拟现实技术使用显示器和计算机技术来生成模拟环境，该模拟环境允许用户沉浸到用户通过各种输入和输出感觉到的虚拟或现实对象并与之交互，因此称作虚拟现实。通过模拟人的视觉、听觉、触摸等，用户可以体验与真实世界一样真实的虚拟现实环境。示例性vr设备可以包括头戴式虚拟显示器和手势识别和交互手柄。

技术实现思路

1、在一个方面，本公开提供一种发光基板，包括：光源；第一光调制层，其具有位于靠近所述光源的一侧的第一微结构；以及第二光调制层，其具有位于远离所述光源的一侧的第二微结构。

2、可选地，第一光调制层被配置为使光会聚；以及所述第二光调制层被配置为使光偏转。

3、可选地，第二光调制层位于所述第一光调制层远离所述光源的一侧。

4、可选地，第一光调制层位于所述第二光调制层远离所述光源的一侧。

5、可选地，第一光调制层包括第一衬底基板和位于所述第一衬底基板上的多个第一突本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种发光基板，包括：

2.根据权利要求1所述的发光基板，其中，所述第一光调制层被配置为使光会聚；以及

3.根据权利要求2所述的发光基板，其中，所述第二光调制层位于所述第一光调制层远离所述光源的一侧。

4.根据权利要求2所述的发光基板，其中，所述第一光调制层位于所述第二光调制层远离所述光源的一侧。

5.根据权利要求1所述的发光基板，其中，所述第一光调制层包括第一衬底基板和位于所述第一衬底基板上的多个第一突出部；以及

6.根据权利要求5所述的发光基板，其中，所述多个第一突出部是多个棱锥。

7.根据权利要求6所述的发光...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种发光基板，包括：

2.根据权利要求1所述的发光基板，其中，所述第一光调制层被配置为使光会聚；以及

3.根据权利要求2所述的发光基板，其中，所述第二光调制层位于所述第一光调制层远离所述光源的一侧。

4.根据权利要求2所述的发光基板，其中，所述第一光调制层位于所述第二光调制层远离所述光源的一侧。

5.根据权利要求1所述的发光基板，其中，所述第一光调制层包括第一衬底基板和位于所述第一衬底基板上的多个第一突出部；以及

6.根据权利要求5所述的发光基板，其中，所述多个第一突出部是多个棱锥。

7.根据权利要求6所述的发光基板，其中，所述多个棱锥中的各个棱锥的顶点位于所述各个棱锥的基部靠近所述光源的一侧；以及

8.根据权利要求6所述的发光基板，其中，所述多个棱锥中的各个棱锥的顶点位于所述各个棱锥的基部的远离所述光源的一侧；以及

9.根据权利要求6所述的发光基板，其中，所述多个棱锥是多个非均匀棱锥；

10.根据权利要求1所述的发光基板，其中，所述第二光调制层包括第二衬底基板和位于所述第二衬底基板上的多个第二突出部；以及

11.根据权利要求10所述的发光基板，其中，所述多个环状突出部的环状边框宽度从所述第二光调制层的中心区域到边缘区域逐渐变化。

12.根据权利要求10所述的发光基板，其中，所述第二光调制层的中心区域不...

【专利技术属性】
技术研发人员：孟宪芹，杨锦，梁蓬霞，程芳，彭玮婷，王维，陈小川，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：