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一种彩膜基板及其制备方法、掩膜版及其制备方法、彩膜母板,属于显示技术领域。掩膜版(MK)用于制备彩膜基板的支撑柱层(PSL),其中,掩膜版(MK)包括多个曝光区(PSA)和围绕曝光区(PSA)的遮光区(SHL)。至少部分曝光区(PSA),包...该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。
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一种彩膜基板及其制备方法、掩膜版及其制备方法、彩膜母板,属于显示技术领域。掩膜版(MK)用于制备彩膜基板的支撑柱层(PSL),其中,掩膜版(MK)包括多个曝光区(PSA)和围绕曝光区(PSA)的遮光区(SHL)。至少部分曝光区(PSA),包...