一种基板结构、靶系统及其制备方法技术方案

本发明专利技术涉及核技术领域，公开了一种基板结构、靶系统及其制备方法。该靶系统包括基板，所述基板的上表面为蜂窝状结构，所述蜂窝状结构中相邻通孔之间的交界处设置有若干导流孔，各通孔内由下到上依次设置有氢扩散层、靶材层及氧化缓解层。本发明专利技术对靶系统的基板结构进行优化后可在靶材层发生核反应放出氢气时，加快氢气的扩散速度，从而显著提高靶系统的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及核，尤其涉及一种基板结构、靶系统及其制备方法。

技术介绍

1、加速器驱动的硼中子俘获治疗为恶性肿瘤的精准治疗提供了一种新途径。基于加速器的硼中子捕获治疗系统的主要是提供满足癌症治疗要求的紧凑型中子源。理想情况下，用于癌症治疗的中子源应产生能量约为10kev的单能中子束。该单能中子束可基于7li(p，n)7be反应获得。但锂金属的机械、化学和热性能在靶中应用时面临一定的挑战，尤其是现有锂靶在使用过程中，由于质子与锂发生核反应，产生中子的同时也会产生氢、氦等，氢、氦等的产生会导致靶材料出现鼓泡或者剥落，因此现有技术中一般通过设置氢扩散层来引导氢气扩散，但是氢气扩散速度较慢，易形成鼓泡，从而严重影响锂靶的使用寿命。

2、此外，目前同类的靶系统中通常采用较为传统的圆片形基板，例如最为常用的铜片，此类基板的上表面通常呈平面状，缺点是一方面与氢扩散层的结合力较差，同时结构设计也不利于使用过程中氢气的扩散，因此导致目前靶系统的使用寿命较短。为此，现有技术中在基板表面镀膜前，通常会对基板进行表面处理(例如化学刻蚀、喷砂处理等)来增加粗糙度和比表面本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种靶系统基板结构，其特征在于：所述基板的上表面为蜂窝状结构，所述蜂窝状结构中相邻通孔之间的交界处设置有若干导流孔。

2.根据权利要求1所述的基板结构，其特征在于：所述通孔的横截面为n边形结构，其中，n≥3。

3.根据权利要求2所述基板结构，其特征在于：所述n边形结构的边长微米级。

4.根据权利要求1所述的基板结构，其特征在于：所述导流孔为圆孔、类圆孔或多边形孔。

5.根据权利要求1或4所述的基板结构，其特征在于：所述导流孔的孔径为微米级或纳米级。

6.一种靶系统，其特征在于：包括基板，所述基板具有权利要求1-5任一项所述的...

【技术特征摘要】

1.一种靶系统基板结构，其特征在于：所述基板的上表面为蜂窝状结构，所述蜂窝状结构中相邻通孔之间的交界处设置有若干导流孔。

2.根据权利要求1所述的基板结构，其特征在于：所述通孔的横截面为n边形结构，其中，n≥3。

3.根据权利要求2所述基板结构，其特征在于：所述n边形结构的边长微米级。

4.根据权利要求1所述的基板结构，其特征在于：所述导流孔为圆孔、类圆孔或多边形孔。

5.根据权利要求1或4所述的基板结构，其特征在于：所述导流孔的孔径为微米级或纳米级。

6.一种靶系统，其特征在于：包括基板，所述基板具有权利要求1-5任一项所述的基板结构，各所述通孔内由下到上依次设置有氢扩散层、靶材层。

7.根据权利要求6所述的靶系统，其特征在于：所述氢扩散层以高储氢高氢扩散率材料为基质，且基质中分散有与基板材质相同的元素；所述高储氢高氢扩散率材料的氢扩散系数为基板材质的氢扩散系数的至少10000倍。

8.根据权利要求7所述的靶系统，其特征在于：自下到上，所述氢扩散层中，与基板材质相同元素的含量逐渐降低。

9.根据权利要求7或8所述的靶系统，其特征在于：

【专利技术属性】
技术研发人员：王盛，王洁，谢宇鹏，胡耀程，杨一帆，胡泽鸣，吴涛，孙秋宇，司清宇，
申请(专利权)人：华硼中子科技杭州有限公司，
类型：发明
国别省市：