【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于电池领域，具体涉及一种负极片及其制备方法和锂离子电池。
技术介绍
1、近年来，随着锂离子电池产业化规模的不断扩张及相关技术的不断发展，锂离子电池已经成为主流电子产品的储能设备，锂离子电池的用途得到了极大的扩展。因此对于锂离子电池提出了更高的要求。近年来，基于层状金属氧化物阴极和石墨阳极的锂离子电池，由于其特定的脱嵌锂机制，能量密度已接近其理论极限，但仍然难以满足动力电池的要求。为了提高锂离子电池能量密度，只能开发具有更高比容量的新型活性物质。随着人们对于电池负极材料的不断探索，可与锂形成合金的材料si因其较高的理论容量、良好的嵌入/脱出能力成为了高能锂离子二次电池中最有前景的负极材料。纯硅材料的理论容量高达4200mah/g，约是石墨负极的十倍。
2、但是硅材料在脱嵌锂的过程中体积变化超过300％，会导致其极易从集流体上脱落。为了解决硅的膨胀问题，极片双层涂布技术得以发展。采用双层涂布可以在表层和里层采用不同的方案配比，通过减少涂布外层硅含量，增加涂布内层硅含量来控制硅的膨胀。例如cn116230867a提出了...
【技术保护点】
1.一种负极片，其特征在于，包括集流体以及设置在所述的集流体至少一侧的活性涂层；所述的活性涂层包括远离集流体一侧的第一涂层以及靠近集流体一侧的第二涂层；所述的第一涂层上设置有凹槽。
2.根据权利要求1所述的负极片，其特征在于，所述的凹槽由激光刻蚀得到；优选的，活性涂层设置在集流体两侧时，集流体上下两侧的凹槽间隔设置；优选的，间隔距离为2-4mm；优选为3mm。
3.根据权利要求1所述的负极片，其特征在于，第一涂层以及第二涂层的厚度独立地为4-50μm。
4.根据权利要求1所述的负极片，其特征在于，所述的凹槽的深度大于第一涂层的厚度，...
【技术特征摘要】
1.一种负极片，其特征在于，包括集流体以及设置在所述的集流体至少一侧的活性涂层；所述的活性涂层包括远离集流体一侧的第一涂层以及靠近集流体一侧的第二涂层；所述的第一涂层上设置有凹槽。
2.根据权利要求1所述的负极片，其特征在于，所述的凹槽由激光刻蚀得到；优选的，活性涂层设置在集流体两侧时，集流体上下两侧的凹槽间隔设置；优选的，间隔距离为2-4mm；优选为3mm。
3.根据权利要求1所述的负极片，其特征在于，第一涂层以及第二涂层的厚度独立地为4-50μm。
4.根据权利要求1所述的负极片，其特征在于，所述的凹槽的深度大于第一涂层的厚度，且小于活性涂层的厚度；优选的，所述的凹槽的深度20-35μm；优选为25μm。
5.根据权利要求1所述的负极片，其特征在于，所述的凹槽的深度小于第一涂层的厚度；优选的凹槽的深度为第一涂层厚度的1/6-1/3...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈芳，马佳庆，郭立超，
申请(专利权)人：天津聚元新能源科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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