【技术实现步骤摘要】
本技术涉及磁流体柱靶，具体为一种稳定性强的磁流体柱靶。
技术介绍
1、专利授权公告号为cn204385287u的技术专利公开了一种卧式旋转柱靶，包括机架，所述机架上设置有真空腔体及电机，所述电机固定在真空腔体外，电机的主动轴伸入真空腔体，并通过动密封件与真空腔体相连，所述真空腔体内设置有同步轴、靶材、支撑件及磁流体，所述靶材的两端分别于磁流体相连，所述靶材的中部由支撑件支撑，所述同步轴由主动轴带动转动，同步轴的转动带动靶材转动，新型结构的卧式旋转靶，充分考虑了靶的利用率、挠度等问题，使靶在镀制过程中不断缓慢旋转，既保证了靶的正常溅射，又最大限度的节约了材料，整个过程稳定、快速。
2、上述现有技术中，在磁流体柱靶的使用过程中，通过支撑轮对靶材的底部支撑，但靶材顶部不方便支撑限位，靶材转动时可能出现晃动不稳定的情况。因此需要进行改进。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种稳定性强的磁流体柱靶，解决了对靶材支撑不稳定的问题。
2、为实现上述目的，本技术提供如下技术方...
【技术保护点】
1.一种稳定性强的磁流体柱靶，包括腔体(1)，其特征在于：所述腔体(1)上固定连接有电机(2)，所述电机(2)的输出端固定连接有传动轴(3)，所述传动轴(3)与腔体(1)转动连接，所述传动轴(3)上通过齿轮啮合连接有同步轴(4)，所述同步轴(4)上通过齿轮啮合连接有靶材(5)，所述靶材(5)上设置有磁流体(6)，所述腔体(1)上接触有连接座(7)，所述连接座(7)分别与同步轴(4)及靶材(5)活动连接，所述连接座(7)上设置有支撑机构(8)，所述连接座(7)上设置有连接机构(9)。
2.根据权利要求1所述的一种稳定性强的磁流体柱靶，其特征在于：所述支撑机构...
【技术特征摘要】
1.一种稳定性强的磁流体柱靶，包括腔体(1)，其特征在于：所述腔体(1)上固定连接有电机(2)，所述电机(2)的输出端固定连接有传动轴(3)，所述传动轴(3)与腔体(1)转动连接，所述传动轴(3)上通过齿轮啮合连接有同步轴(4)，所述同步轴(4)上通过齿轮啮合连接有靶材(5)，所述靶材(5)上设置有磁流体(6)，所述腔体(1)上接触有连接座(7)，所述连接座(7)分别与同步轴(4)及靶材(5)活动连接，所述连接座(7)上设置有支撑机构(8)，所述连接座(7)上设置有连接机构(9)。
2.根据权利要求1所述的一种稳定性强的磁流体柱靶，其特征在于：所述支撑机构(8)包括滚珠(81)、第一弹簧(82)、滑块(83)、滑杆(84)、连接块(85)、支架(86)、滚轮(87)，所述连接座(7)的内部转动连接有滚珠(81)，所述滚珠(81)与靶材(5)接触，所述连接座(7)的内部设置有第一弹簧(82)，所述连接座(7)的内部滑动连接有滑块(83)，所述滑块(83)上固定连接有滑杆(84)，所述滑杆(84)与连接座(7)滑动连接，所述滑杆(84)上固定连接有连接块(85)，所述连接块(85)与连接座(7)滑动连接，所述连接块(85)上固定连接有支架(86)，所述支架(86)上转动连接有滚轮(87)，所述滚...
【专利技术属性】
技术研发人员：曾晓荔，范方华，范方豪，
申请(专利权)人：深圳鑫佳豪真空镀膜设备有限公司，
类型：新型
国别省市：
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