【技术实现步骤摘要】
本技术涉及ald设备，特别涉及一种反应腔室压力调整装置。
技术介绍
1、在真空镀膜设备中，现有技术通常是利用蝶阀调整尾排气流流量来使反应腔室的气压维持在所需要的压力。而在ald设备中，通气的脉冲时间很短，通常只有几秒，蝶阀很难在如此短的时间内将其开度调整到相应的数值并保证压力恒定，而反应腔室的压力波动会对ald设备的工作造成不利影响。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种反应腔室压力调整装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为实现上述目的，本技术提供了一种反应腔室压力调整装置，包括反应腔室、真空泵和连通所述反应腔室和所述真空泵的排气管道，所述排气管道内设置有环形气路，所述环形气路均匀布置有多个喷嘴，所述多个喷嘴用于向所述排气管道喷出惰性气体形成气帘。
3、优选地，所述环形气路上设置有气体流量控制器。
4、优选地，所述喷嘴的倾斜角度为10°至30°。
5、优选地，所述喷嘴向所述反应腔室的方向倾斜设置。
6、优选地，所述喷
【技术保护点】
1.一种反应腔室压力调整装置，其特征在于，包括反应腔室（1）、真空泵（2）和连通所述反应腔室（1）和所述真空泵（2）的排气管道（3），所述排气管道（3）内设置有环形气路（4），所述环形气路（4）均匀布置有多个喷嘴，所述多个喷嘴用于向所述排气管道（3）喷出惰性气体形成气帘。
2.根据权利要求1所述的反应腔室压力调整装置，其特征在于，所述环形气路（4）上设置有气体流量控制器（5）。
3.根据权利要求1所述的反应腔室压力调整装置，其特征在于，所述喷嘴向所述反应腔室（1）的方向倾斜设置。
4.根据权利要求3所述的反应腔室压力调整装置，其特征...
【技术特征摘要】
1.一种反应腔室压力调整装置，其特征在于，包括反应腔室（1）、真空泵（2）和连通所述反应腔室（1）和所述真空泵（2）的排气管道（3），所述排气管道（3）内设置有环形气路（4），所述环形气路（4）均匀布置有多个喷嘴，所述多个喷嘴用于向所述排气管道（3）喷出惰性气体形成气帘。
2.根据权利要求1所述的反应腔室压力调整装置，其特征在于，所述环形气路...
【专利技术属性】
技术研发人员：孙胜华，钱刚祥，
申请(专利权)人：艾华无锡半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。