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本技术涉及ALD设备技术领域,具体为一种反应腔室压力调整装置,包括反应腔室、真空泵和连通所述反应腔室和所述真空泵的排气管道,所述排气管道内设置有环形气路,所述环形气路均匀布置有多个喷嘴,所述多个喷嘴用于向所述排气管道喷出惰性气体形成气帘。通...该专利属于艾华(无锡)半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过艾华(无锡)半导体科技有限公司授权不得商用。
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本技术涉及ALD设备技术领域,具体为一种反应腔室压力调整装置,包括反应腔室、真空泵和连通所述反应腔室和所述真空泵的排气管道,所述排气管道内设置有环形气路,所述环形气路均匀布置有多个喷嘴,所述多个喷嘴用于向所述排气管道喷出惰性气体形成气帘。通...