【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于真空镀膜设备，具体涉及一种可测温真空设备。
技术介绍
1、目前真空设备的测温方式有如下两种：
2、1.真空设备热电偶测温方式缺点：只能测量衬板（或防着板）腔体温度，不能反应基板实际温度。
3、2.测温纸贴于基板上测温缺点：只能测量基板最高温度，不能反应基板和腔体处实时温度；只能测出大致温度值，不能测出具体温度数值；最高只能测量300度的温度，并且测温纸上的胶对真空设备有一定的污染。
技术实现思路
1、为了解决目前真空镀膜设备中只能测量腔室温度而不能准确测量腔室内基板温度的技术问题，本技术提供了一种可测温真空镀膜设备。
2、本技术采用以下技术方案：
3、一种可测温真空设备，包括真空镀膜设备，在真空镀膜设备的真空腔室内正对基板的腔室上设置有红外测温传感器，所述红外测温传感器的传感器探头正对方向设置有随基板移动的运动挡板，所述运动挡板设置于真空镀膜设备的真空腔室内。
4、进一步地，所述真空镀膜设备选自磁控溅射设备、等离子体...
【技术保护点】
1.一种可测温真空设备，包括真空镀膜设备，其特征在于，在真空镀膜设备的真空腔室内正对基板的腔室上设置有红外测温传感器，所述红外测温传感器的传感器探头正对方向设置有随基板移动的运动挡板，所述运动挡板设置于真空镀膜设备的真空腔室内。
2.根据权利要求1所述的可测温真空设备，其特征在于，所述真空镀膜设备选自磁控溅射设备、等离子体沉积设备、热蒸发设备和CVD设备。
3.根据权利要求1所述的可测温真空设备，其特征在于，所述运动挡板设置在所述真空镀膜设备的真空腔室内，通过气动阀气动控制或机械控制实现移动。
4.根据权利要求1所述的可测温真空设备...
【技术特征摘要】
1.一种可测温真空设备，包括真空镀膜设备，其特征在于，在真空镀膜设备的真空腔室内正对基板的腔室上设置有红外测温传感器，所述红外测温传感器的传感器探头正对方向设置有随基板移动的运动挡板，所述运动挡板设置于真空镀膜设备的真空腔室内。
2.根据权利要求1所述的可测温真空设备，其特征在于，所述真空镀膜设备选自磁控溅射设备、等离子体沉积设备、热蒸发设备和cvd设备。
3.根据权利要求1所述的可测温真空设备，其特征在于，所述运动挡板设置在所述真空镀膜设备的真空腔室内，通过气动阀气动控制...
【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，
申请(专利权)人：仁烁光能苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：
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