【技术实现步骤摘要】
本技术涉及尾气处理，特别是涉及一种pecvd设备的尾气处理结构。
技术介绍
1、现有pecvd设备反应腔中反应剩余气体与残留粉尘通过真空管道由真空泵抽走，在此过程中反应的剩余气体与残留粉尘容易在真空泵中形成粉尘沉积，堵塞泵体，最终导致以下问题点：
2、1、真空泵堵塞之后抽速降低，导致腔室真空度达不到工艺所需，因此真空泵堵塞之后需要进行维修保养，后期维护成本较高；
3、2、真空泵堵塞之后会对真空泵寿命有所影响；
4、3、真空泵堵塞后可能会造成气流反冲，使反应腔被污染，影响产品生产良率。
技术实现思路
1、本技术的目的是提供一种pecvd设备的尾气处理结构，以解决上述现有技术存在的问题，将反应腔中排出的剩余气体与残留粉尘等提前过滤，增加真空泵的使用寿命与保养周期，且通过管道设计防止气流反冲导致腔室污染。
2、为实现上述目的，本技术提供了如下方案：本技术提供一种pecvd设备的尾气处理结构，包括
3、防气流反冲管道，pecvd设备的反应腔的排气管与所述防气流反冲管道的进气端相连接，所述防气流反冲管道包括主通道和交错分布在所述主通道两侧的防反冲通道，所述主通道上设置有多个弯折点，所述防反冲通道位于弯折点处，前侧进入所述主通道的剩余气体与残留粉尘会在所述防反冲通道处进行分流或回转；以及
4、过滤器，所述防气流反冲管道的出气端通过管路与所述过滤器相连通，所述过滤器的末端通过真空管道与真空泵相连。
5、优选地，所
6、优选地，靠近所述主通道的第一端的弯折点为向下的弯折点，靠近所述主通道的第二端的弯折点为向上的弯折点。
7、优选地，所述防反冲通道包括直管段和半球段，所述直管段与主通道的弯折点相连通，所述直管段的末端一体连接有所述半球段。
8、优选地，所述防反冲通道的半球段朝向所述主通道的第一端倾斜设置；pecvd设备反应腔的剩余气体与残留粉尘在弯折点处分流至所述主通道和防反冲通道。
9、本技术相对于现有技术取得了以下有益技术效果：
10、本技术中的pecvd设备的尾气处理结构，包括防气流反冲管道和过滤器，反应剩余气体与残留粉尘从反应腔中流向防气流反冲管道与过滤器后，通过真空管道被抽到真空泵中；在此过程中反应剩余气体被真空泵抽走，残余粉尘在流经过滤器时，被里面的滤芯过滤掉，因此不会再被抽至真空泵之中沉积，堵塞真空泵。当真空泵出现异常时，剩余气体与粉尘反冲，气体与粉尘从防气流反冲管道的右端进入，防气流反冲管道的半球状结构则会出现反向回流，该反向回流则会阻碍剩余气体与粉尘的反冲，从而达到防气流反冲导致腔室污染的效果。本技术提供的pecvd设备的尾气处理结构可以有效的防止真空泵被反应腔残留的粉尘堵塞，极大的延长了真空泵的保养时间，同时在真空泵异常时通过管路设计可以有效的防止气流反冲，导致反应腔被粉尘污染，避免影响产品的良率。
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1.一种PECVD设备的尾气处理结构，其特征在于：包括
2.根据权利要求1所述的PECVD设备的尾气处理结构，其特征在于：所述防气流反冲管道的主通道的第一端与所述PECVD设备的反应腔的排气管相连接，所述主通道的第二端与所述过滤器通过管路相连，所述主通道上等间距设置有多个弯折点，多个所述弯折点呈向上和向下交错设置。
3.根据权利要求2所述的PECVD设备的尾气处理结构，其特征在于：靠近所述主通道的第一端的弯折点为向下的弯折点，靠近所述主通道的第二端的弯折点为向上的弯折点。
4.根据权利要求1所述的PECVD设备的尾气处理结构，其特征在于：所述防反冲通道包括直管段和半球段，所述直管段与主通道的弯折点相连通，所述直管段的末端一体连接有所述半球段。
5.根据权利要求1所述的PECVD设备的尾气处理结构，其特征在于：所述防反冲通道的半球段朝向所述主通道的第一端倾斜设置；PECVD设备反应腔的剩余气体与残留粉尘在弯折点处分流至所述主通道和防反冲通道。
【技术特征摘要】
1.一种pecvd设备的尾气处理结构，其特征在于：包括
2.根据权利要求1所述的pecvd设备的尾气处理结构，其特征在于：所述防气流反冲管道的主通道的第一端与所述pecvd设备的反应腔的排气管相连接，所述主通道的第二端与所述过滤器通过管路相连，所述主通道上等间距设置有多个弯折点，多个所述弯折点呈向上和向下交错设置。
3.根据权利要求2所述的pecvd设备的尾气处理结构，其特征在于：靠近所述主通道的第一端的弯折点为向下的弯折...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘一博，王绍华，吴迪，李雪红，林建雄，
申请(专利权)人：湖畔光电科技江苏有限公司，
类型：新型
国别省市：
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