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本技术公开一种PECVD设备的尾气处理结构,包括防气流反冲管道和过滤器,剩余气体与残留粉尘从反应腔中流向防气流反冲管道与过滤器后被抽到真空泵中;残余粉尘在流经过滤器时被过滤掉,不会造成真空泵堵塞。剩余气体与粉尘反冲时,气体与粉尘从防气流反冲...该专利属于湖畔光电科技(江苏)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过湖畔光电科技(江苏)有限公司授权不得商用。
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本技术公开一种PECVD设备的尾气处理结构,包括防气流反冲管道和过滤器,剩余气体与残留粉尘从反应腔中流向防气流反冲管道与过滤器后被抽到真空泵中;残余粉尘在流经过滤器时被过滤掉,不会造成真空泵堵塞。剩余气体与粉尘反冲时,气体与粉尘从防气流反冲...