一种双端双泵浦声光调Q激光器制造技术

技术编号:42614532 阅读:59 留言:0更新日期:2024-09-03 18:20
本发明专利技术提出了一种双端双泵浦声光调Q激光器,该激光器包括激光晶体和四个泵浦源,泵浦源分别两两设置于激光晶体的两端,每个泵浦源与激光晶体之间依次设置有泵浦透镜组、泵浦光反向隔离器、双色镜,该激光器还包括声光Q开关和输出镜。泵浦激光依次通过泵浦透镜组和双色镜聚焦到激光晶体的内部,大部分泵浦激光被激光晶体吸收,未被吸收的泵浦光分别经过双色镜和泵浦光反向隔离器以反射的形式与泵浦源隔离。本发明专利技术提出的双端双泵浦声光调Q激光器不仅提高了激光晶体对泵浦激光的吸收率,且四个泵浦源均使用较小功率的泵浦激光,这样非常有利于激光晶体散热,同时大幅提高了激光器的安全输出功率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及激光器,特别涉及一种双端双泵浦声光调q激光器。


技术介绍

1、端面泵浦声光调q激光器是一种主要的精密加工用激光器,可应用于3c精密标记、玻璃钻孔、pcb分板、陶瓷材料划片、硬脆材料切割等领域。目前这种激光器采用的泵浦方式主要是用一个较大功率的泵浦模块从nd:yvo4晶体的一个端面对nd:yvo4晶体进行泵浦,这种泵浦方式使大部分泵浦光在nd:yvo4晶体端面附近被吸收,非常不利于散热,并且nd:yvo4晶体的断裂阈值很低,这种泵浦方式也使nd:yvo4晶体变的非常容易炸裂,最终导致这种激光器安全输出功率难以进一步提高。


技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种双端双泵浦声光调q激光器,以解决目前端面泵浦声光调q激光器的泵浦方式不利于散热使nd:yvo4晶体变的非常容易炸裂,且激光器安全输出功率难以提高的问题。具体技术方案如下:

2、一种双端双泵浦声光调q激光器,包括激光晶体、第一泵浦源、第二泵浦源、第三泵浦源和第四泵浦源,所述第一泵浦源和所述第三泵浦源在所述激光晶体的一端外侧,本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种双端双泵浦声光调Q激光器,其特征在于:包括激光晶体、第一泵浦源、第二泵浦源、第三泵浦源和第四泵浦源,所述第一泵浦源和所述第三泵浦源在所述激光晶体的一端外侧,所述第二泵浦源和所述第四泵浦源在所述激光晶体的另一端外侧;

2.根据权利要求1所述的双端双泵浦声光调Q激光器,其特征在于:所述第一泵浦源和所述第二泵浦源相对设置在所述激光晶体的两端,所述第一泵浦源与所述激光晶体之间依次为第一泵浦透镜组、第一泵浦光反向隔离器、第一45°双色镜和双色匹配镜,所述第二泵浦源和所述激光晶体之间依次为第二泵浦透镜组、第二泵浦光反向隔离器和第二45°双色镜;

3.根据权利要求2所述...

【技术特征摘要】

1.一种双端双泵浦声光调q激光器,其特征在于:包括激光晶体、第一泵浦源、第二泵浦源、第三泵浦源和第四泵浦源,所述第一泵浦源和所述第三泵浦源在所述激光晶体的一端外侧,所述第二泵浦源和所述第四泵浦源在所述激光晶体的另一端外侧;

2.根据权利要求1所述的双端双泵浦声光调q激光器,其特征在于:所述第一泵浦源和所述第二泵浦源相对设置在所述激光晶体的两端,所述第一泵浦源与所述激光晶体之间依次为第一泵浦透镜组、第一泵浦光反向隔离器、第一45°双色镜和双色匹配镜,所述第二泵浦源和所述激光晶体之间依次为第二泵浦透镜组、第二泵浦光反向隔离器和第二45°双色镜;

3.根据权利要求2所述的双端双泵浦声光调q激光器,其特征在于:所述声光q开关和所述输出镜在所述第三45°双色镜的反射光路方向上,且位于所述激光晶体的侧面。

4.根据权利要求2所述的双端双泵浦声光调q激光器,其特征在于:所述第一泵浦源、所述第二泵浦源、所述第三泵浦源和所述第四泵浦源是保偏光纤耦合输出半导体激光器,输出波长为808nm或878.6nm,输出光纤芯径为200um或400um,输出光纤的数值孔径为0.22。

5.根据权利要求4所述的双端双泵浦声光调q激光器,其特征在于:所述第一45°双色镜与所述第二45°双色镜倾斜方向相反,所述第一45°双色镜和所述第二45°双色镜均一面镀808nm或878.6nm增透膜,另一面镀808nm或878.6nm高反膜和1064nm高反膜。

【专利技术属性】
技术研发人员:吕锋梁为邓俊杰易予舟
申请(专利权)人:武汉华日精密激光股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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