【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体设备清洗,具体是基于实时数据仿真模型的设备清洗效果评估方法。
技术介绍
1、半导体设备长期处于这种环境下运行,设备内部核心零配件容易附着很多具有腐蚀性的污染物或颗粒,为了提高半导体设备运行的稳定性和使用寿命,需要对其零部件进行清洁清洗;
2、现有技术中,对于设备零部件的清洗,往往采用标准浓度的清洗介质对设备零部件清洗固定时长,这种方式,仍需要在清洗结束后,人工对设备零部件的清洗效果进行检查,然后再根据经验确定是否需要二次清洗,这种工艺流程效率低下,且经常出现人为操作误差的情况导致设备零部件清洗不充分,如何对设备零部件的清洗效果进行有效评估的同时,还能在设备零部件需要二次清洗时提供合理的二次清洗策略,是我们所需要解决的问题,为此,现提供基于实时数据仿真模型的设备清洗效果评估方法。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供基于实时数据仿真模型的设备清洗效果评估方法。
2、本专利技术的目的可以通过以下技术方案实现:
3、基于实时数据仿真模
...【技术保护点】
1.基于实时数据仿真模型的设备清洗效果评估方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的基于实时数据仿真模型的设备清洗效果评估方法,其特征在于,所述设备清洗样本数据库的构建过程包括:
3.根据权利要求2所述的基于实时数据仿真模型的设备清洗效果评估方法,其特征在于,所述仿真环境空间构建的构建过程包括:
4.根据权利要求3所述的基于实时数据仿真模型的设备清洗效果评估方法,其特征在于,所述设备清洗数据的获取过程包括:
5.根据权利要求4所述的基于实时数据仿真模型的设备清洗效果评估方法,其特征在于,所述目标件仿真模型
...【技术特征摘要】
1.基于实时数据仿真模型的设备清洗效果评估方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的基于实时数据仿真模型的设备清洗效果评估方法,其特征在于,所述设备清洗样本数据库的构建过程包括:
3.根据权利要求2所述的基于实时数据仿真模型的设备清洗效果评估方法,其特征在于,所述仿真环境空间构建的构建过程包括:
4.根据权利要求3所述的基于实时数据仿真模型的设备清洗效果评估方法,其特征在于,所述设备清洗数据的获取过程包括:
5.根据权利要求4所述的基于实时数据仿真模型的...
【专利技术属性】
技术研发人员:龚健强,桂传书,严汪学,薛弘宇,
申请(专利权)人:江苏凯威特斯半导体科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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