【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开涉及rf产生器系统和rf产生器的控制。
技术介绍
1、在半导体制造中经常使用等离子体制造。在等离子体制造中，离子被电场加速以从基板的表面蚀刻材料或将材料沉积到基板的表面上。在一种基本实施方式中，基于由功率输送系统的相应的射频(rf)或直流(dc)产生器产生的rf或dc功率信号产生电场。必须精确控制由产生器产生的功率信号以有效地执行等离子体蚀刻。
2、这里提供的背景描述是为了总体呈现本公开的背景。在本背景部分中描述范围内的目前命名的专利技术人的工作以及在申请时可能不符合现有技术的条件的描述的各方面既不明确地，也不隐含地被承认为针对本公开的现有技术。
技术实现思路
1、一台或多台计算机的系统可以被配置为通过在系统上安装软件、固件、硬件或它们的组合来执行特定操作或动作，软件、固件、硬件或它们的组合在操作中使系统执行动作。一个或多个计算机程序可以被配置为通过包括指令来执行特定操作或动作，当由数据处理装置执行时，指令使装置执行动作。
2、一个一般方面包括用于等离子体产生系统的控制器。控制器还包括：模型评估模块，被配置为接收依照由rf发电机控制的等离子体的状态而变化的感测值，模型评估模块生成等离子体参数，其中等离子体参数依照感测值而变化。控制器还包括：模型集成模块，被配置为接收等离子体参数，并且被配置为集成等离子体参数并输出集成模型参数。控制器还包括：iedf评估模块，被配置为接收集成模型参数，并且依照集成模型参数来生成离子能量分布函数(iedf)。控制器还包括：
3、实施方式可以包括以下特征中的一个或多个。控制器可以包括：优化模块，被配置为接收集成模型参数，并将集成模型参数与用于定义模型的预定参数进行比较，并且依照比较来修改预定参数。rf发电机是偏置rf产生器，并且iedf依照偏置rf产生器的功率、频率和相位中的至少一个而变化。集成模型参数依照等离子体的离子电势而变化。集成模型参数是有效离子电势波形，并且有效离子电势波形表征等离子体的离子电势。rf产生器控制模块被配置为接收有效离子电势波形，以控制rf发电机的功率、频率和相位中的至少一个。rf发电机可以包括多个rf发电机，并且rf发电机的输出被组合并且被施加到等离子体。能够在等离子体产生系统中的多个位置处检测感测值。rf发电机提供输出信号，该输出信号可以是正弦信号、方波信号、矩形波信号、三角波信号、高斯信号、分段线性信号、窄脉冲电压峰值之后的斜降信号和任意信号中的一个。输出信号由脉冲信号调制。脉冲信号的形状是梯形、三角形、高斯形状和任意形状中的一个。描述的技术的实现可以包括硬件、方法或过程或者计算机可访问介质上的计算机软件。
4、一个一般方面包括rf发电系统。rf发电系统还包括rf发电机，rf发电机产生被施加到负载以产生等离子体的rf输出信号。系统还包括：模型评估模块，被配置为接收依照等离子体的状态而变化的感测值，模型评估模块确定等离子体参数，其中等离子体参数依照感测值而变化。系统还包括：模型集成模块，被配置为接收等离子体参数，并且被配置为将等离子体参数集成并输出集成模型参数。系统还包括：rf产生器控制模块，被配置为接收集成模型参数，并且生成rf产生器控制信号，以依照集成模型参数来控制rf发电机的功率、频率和相位中的至少一个。本方面的其他实施例包括各自被配置为执行方法的动作的对应的计算机系统、装置和记录在一个或多个计算机存储设备上的计算机程序。
5、实施方式可以包括以下特征中的一个或多个。一种rf发电系统，其中rf发电机是偏置rf产生器，并且集成模型参数依照偏置rf产生器的频率和相位中的至少一个而变化。rf发电系统可以包括：iedf评估模块，被配置为接收集成模型参数，并且依照集成模型参数来生成离子能量分布函数(iedf)。rf产生器控制模块被配置为接收iedf，并且生成rf产生器控制信号，以依照集成模型参数或iedf来控制rf发电机的功率、频率和相位中的至少一个。rf发电系统可以包括：iedf控制器模块，被配置为接收iedf，并且生成用于控制rf产生器的信号。rf产生器控制模块被配置为接收iedf，并且生成rf产生器控制信号，以依照集成模型参数或iedf来控制rf发电机的功率、频率和相位中的至少一个。rf发电机是偏置rf产生器，并且iedf依照偏置rf产生器的功率、频率和相位中的至少一个而变化。rf发电系统可以包括：优化模块，被配置为接收集成模型参数，并将集成模型参数与用于定义模型的预定参数进行比较，并且依照比较来修改预定参数。集成模型参数依照等离子体的离子电势而变化。rf发电机可以包括多个rf发电机，并且rf发电机的输出被组合并且被施加到等离子体。能够在rf产生系统中的多个位置处检测感测值。rf输出信号是正弦信号、方波信号、矩形波信号、三角波信号、高斯信号、分段线性信号、窄脉冲电压峰值之后的斜降信号和任意信号中的一个。rf输出信号由脉冲信号调制。脉冲信号的形状是梯形、三角形、高斯形状和任意形状中的一个。描述的技术的实现可以包括硬件、方法或过程或者计算机可访问介质上的计算机软件。
6、一个一般方面包括一种存储指令的非暂时性计算机可读介质。存储指令的非暂时性计算机可读介质还包括：生成被施加到负载以产生等离子体的rf输出信号。指令还包括：接收依照等离子体的状态而变化的感测值，并且确定等离子体参数，其中等离子体参数依照感测值而变化。指令还包括：接收等离子体参数，集成等离子体参数，并生成集成模型参数。指令还包括：接收集成模型参数，生成rf产生器控制信号，以依照集成模型参数来控制rf发电机的功率、频率和相位中的至少一个。本方面的其他实施例包括各自被配置为执行方法的动作的对应的计算机系统、装置和记录在一个或多个计算机存储设备上的计算机程序。
7、实施方式可以包括以下特征中的一个或多个。一种存储指令的非暂时性计算机可读介质，其中，rf发电机是偏置rf产生器，并且集成模型参数依照偏置rf产生器的频率和相位中的至少一个而变化。一种存储指令的非暂时性计算机可读介质，指令可以包括：接收集成模型参数，并依照集成模型参数来生成离子能量分布函数(iedf)。描述的技术的实现可以包括硬件、方法或过程或者计算机可访问介质上的计算机软件。
8、一种存储指令的非暂时性计算机可读介质，指令可以包括：接收iedf，并且生成rf产生器控制信号，以依照集成模型参数或iedf来控制rf发电机的功率、频率和相位中的至少一个。一种存储指令的非暂时性计算机可读介质，指令可以包括：接收iedf，并且生成用于控制rf产生器的信号。一种存储指令的非暂时性计算机可读介质，指令可以包括：接收iedf，并且生成rf产生器本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种用于等离子体产生系统的控制器，包括：
2.根据权利要求1所述的控制器，包括：
3.根据权利要求1所述的控制器，其中，
4.根据权利要求1所述的控制器，其中，
5.根据权利要求1所述的控制器，其中，
6.根据权利要求5所述的控制器，其中，
7.根据权利要求1所述的控制器，其中，
8.根据权利要求1所述的控制器，其中，
9.根据权利要求1所述的控制器，其中，
10.根据权利要求9所述的控制器，其中，
11.根据权利要求10所述的控制器，其中，
12.一种RF发电系统，包括：
13.根据权利要求12所述的RF发电系统，其中，
14.根据权利要求12所述的RF发电系统，包括：
15.根据权利要求14所述的RF发电系统，其中，
16.根据权利要求14所述的RF发电系统，进一步包括：
17.根据权利要求16所述的RF发电系统，其中，
18.根据权利要求14所述的RF发电系统，其中，<...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种用于等离子体产生系统的控制器，包括：
2.根据权利要求1所述的控制器，包括：
3.根据权利要求1所述的控制器，其中，
4.根据权利要求1所述的控制器，其中，
5.根据权利要求1所述的控制器，其中，
6.根据权利要求5所述的控制器，其中，
7.根据权利要求1所述的控制器，其中，
8.根据权利要求1所述的控制器，其中，
9.根据权利要求1所述的控制器，其中，
10.根据权利要求9所述的控制器，其中，
11.根据权利要求10所述的控制器，其中，
12.一种rf发电系统，包括：
13.根据权利要求12所述的rf发电系统，其中，
14.根据权利要求12所述的rf发电系统，包括：
15.根据权利要求14所述的rf发电系统，其中，
16.根据权利要求14所述的rf发电系统，进一步包括：
17.根据权利要求16所述的rf发电系统，其中，
18.根据权利要求14所述的rf发电系统，其中，
19.根据权利要求12所述的rf发电系统，包括：
20.根据权利要求12所述的rf发电系统，其中，
21.根据权利要求12所述的rf发电系统，其中，
22.根据权利要求12所述的rf发电系统，其中，
23.根据权利要求12所述的rf发电系统，其中，
2...
【专利技术属性】
技术研发人员：林内尔·马丁尼兹，大卫·米勒，埃尔德里奇·芒特四世，彼得·保罗，亚伦·瑞多姆斯基，
申请(专利权)人：MKS仪器有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。