一种高分辨率透射电子显微镜像的像差确定方法及装置制造方法及图纸

技术编号:42563714 阅读:23 留言:0更新日期:2024-08-29 00:32
本发明专利技术提供一种高分辨率透射电子显微镜像的像差确定方法及装置,针对已知样本采集HRTEM实验像并重建预设晶态材料后表面的平均出射波函数,通过调节平均出射波函数的像差参数得到中间波函数,利用中间波函数生成预设晶态材料后表面的模拟像,通过多轮迭代调节寻找模拟像与实验像相似符合要求的像差参数,并基于模拟像和实验像中的缺陷信息进一步调节二阶慧差提高像差参数的精度,以最终得到高分辨率透射电子显微镜像的检出像差。本申请针对小区域电镜像求解像差参数,克服了传统方法采用非晶像求解像差过程繁杂且偏差较高的问题,可以大大缩小研究人员手动对比寻找像差参数的时间,节约人力成本和时间成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及透射电子显微镜图像处理,尤其涉及一种高分辨率透射电子显微镜像的像差确定方法及装置


技术介绍

1、在高分辨率透射电子显微成像模式(hrtem)中,受像差的影响,电镜图像上物体会发生畸变,使可解释的材料图像分辨率降低。尽管在应用了球差校正器之后得到了很大的改善,但是从图像上来看,像差的影响依然很明显。

2、在透射电子显微镜领域,波函数重构作为一种关键技术,旨在克服由像差引起的图像失真,进而实现对原子结构的精准成像。传统的像差测量方法利用非晶样品的独特性质,通过收集一系列倾斜角度下的图像及其对应衍射环信息,能够有效的将难以量化的高阶像差转化为较易处理的低阶像差,从而达到测量像差的目的。此外,还可以在非晶中使用标准差最小理论来测量像差。非晶法要求图像中必须含有非晶,然而科研人员更多关注的一般为晶体区域,样品位置的变动可能导致像差参数波动,增加了实际操作的复杂度。此外,一种迭代算法提出原子在无像差时呈现理想的点对称性,此方法在校正高阶像散方面效果显著,也揭示了初始重构波函数中仍含有残余欠焦的影响,因此继续优化像差校正模型和算法的非常必要,本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种高分辨率透射电子显微镜像的像差确定方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的高分辨率透射电子显微镜像的像差确定方法,其特征在于,所述方法中,需要调整的像差参数包括:焦距、二阶像散与其角度值、三阶像散与其角度值、二阶彗差与其角度值、三阶球面像差、四轴像散与其角度值、二阶星状像差与其角度值、五阶像散与其角度值、三瓣像差与其角度值、四阶轴向慧差与其角度值、五阶球面像差、六阶散光像散与其角度值、四瓣像差与其角度值、四阶星状像差与其角度值。

3.根据权利要求1所述的高分辨率透射电子显微镜像的像差确定方法,其特征在于,根据各实验像重建所述预设晶态...

【技术特征摘要】

1.一种高分辨率透射电子显微镜像的像差确定方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的高分辨率透射电子显微镜像的像差确定方法,其特征在于,所述方法中,需要调整的像差参数包括:焦距、二阶像散与其角度值、三阶像散与其角度值、二阶彗差与其角度值、三阶球面像差、四轴像散与其角度值、二阶星状像差与其角度值、五阶像散与其角度值、三瓣像差与其角度值、四阶轴向慧差与其角度值、五阶球面像差、六阶散光像散与其角度值、四瓣像差与其角度值、四阶星状像差与其角度值。

3.根据权利要求1所述的高分辨率透射电子显微镜像的像差确定方法,其特征在于,根据各实验像重建所述预设晶态材料后表面的平均出射波函数,包括:

4.根据权利要求3所述的高分辨率透射电子显微镜像的像差确定方法,其特征在于,所述误差函数的表达式为:

5.根据权利要求4所述的高分辨率透射电子显微镜像的像差确定方法,其特征在于,所述方法采用高分辨透射电镜模...

【专利技术属性】
技术研发人员:林芳王淑雅林上港徐佳文陈仕长
申请(专利权)人:华南农业大学
类型:发明
国别省市:

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