【技术实现步骤摘要】
当前公开的主题总体上涉及样品查验领域。
技术介绍
1、目前对与所制造的设备的超大规模集成相关联的高密度和高性能的需求需要亚微米特征结构，并且需要提高晶体管和电路速度，以及增强可靠性。这样的需求需要形成具有高精度和高均匀性的设备特征结构，这继而需要仔细地监视制造处理，包括在设备仍为半导体晶片形式时对设备进行自动查验。
2、在半导体制造期间的各个步骤中使用查验处理来测量样品的尺寸(计量)，和/或检测并分类样品上的缺陷(例如，自动缺陷分类(adc)、自动缺陷审查(adr)等)。
技术实现思路
1、根据当前公开的主题的某些方面，提供一种包括一个或多个处理电路的系统，其中一个或多个处理电路是可操作的，以实施经训练的机器学习模型，其中一个或多个处理电路被配置为针对将在半导体样品上制造的多个不同覆盖目标中的每个给定覆盖目标，给定覆盖目标包括多个堆叠的半导体层，获得给定覆盖目标的设计图像；将设计图像馈送到经训练的机器学习模型，以模拟将由电子束查验系统获取的给定覆盖目标的至少一个图像；在实际制造...
【技术保护点】
1.一种包括一个或多个处理电路的系统，其中所述一个或多个处理电路是可操作的，以实施经训练的机器学习模型，其中所述一个或多个处理电路被配置为：
2.根据权利要求1所述的系统，被配置为：
3.根据权利要求1所述的系统，其中每个给定覆盖目标与所述设计数据中的至少一个给定覆盖值相关联，其中所述系统被配置为，针对至少一个给定覆盖目标，确定提供所述至少一个模拟覆盖与所述至少一个给定覆盖值之间的差值的信息的数据，并且使用提供所述至少一个给定覆盖目标的所述至少一个模拟覆盖与所述至少一个给定覆盖值之间的差值的信息的所述数据来更新与所述至少一个给定覆盖目标相关联的
<...【技术特征摘要】
1.一种包括一个或多个处理电路的系统，其中所述一个或多个处理电路是可操作的，以实施经训练的机器学习模型，其中所述一个或多个处理电路被配置为：
2.根据权利要求1所述的系统，被配置为：
3.根据权利要求1所述的系统，其中每个给定覆盖目标与所述设计数据中的至少一个给定覆盖值相关联，其中所述系统被配置为，针对至少一个给定覆盖目标，确定提供所述至少一个模拟覆盖与所述至少一个给定覆盖值之间的差值的信息的数据，并且使用提供所述至少一个给定覆盖目标的所述至少一个模拟覆盖与所述至少一个给定覆盖值之间的差值的信息的所述数据来更新与所述至少一个给定覆盖目标相关联的设计数据。
4.根据权利要求1所述的系统，其中每个给定覆盖目标与所述设计数据中的至少一个给定覆盖值相关联，其中所述系统被配置为，针对每个给定覆盖目标，确定提供所述至少一个模拟覆盖与所述至少一个给定覆盖值之间的差值的信息的数据，并且使用所述数据来从所述多个不同覆盖目标中选择所述至少一个最优覆盖目标。
5.根据权利要求1所述的系统，被配置为：
6.根据权利要求5所述的系统，被配置为，针对每个给定覆盖目标，针对所述多个覆盖值中的每个给定覆盖值，确定提供所述给定模拟覆盖与所述给定覆盖值之间的差值的信息的数据，以及使用所述数据来从所述多个不同覆盖目标中选择所述至少一个最优覆盖目标。
7.根据权利要求1所述的系统，被配置为，在制造所述最优覆盖目标时：
8.根据权利要求7所述的系统，其中所述最优覆盖目标与所述设计数据中的至少一个给定覆盖值相关联，其中所述系统被配置为将所述至少一个实际覆盖和与所述最优覆盖目标相关联的所述至少一个给定覆盖值进行比较。
9.根据权利要求7所述的系统，被配置为确定提供所述检查图像的质量的信息的数据。
10.根据权利要求1所述的系统，其中所述系统使得用户能够修改存在于由所述机器学习模型生成的所述至少一个图像中的噪声水平。
11.根据权利要求1所述的系统，被...
【专利技术属性】
技术研发人员：巴尔·杜波夫斯基，冉·雅科比，谢东原，凯文·瑞安·胡申斯，塔尔·伊茨科维奇，纳胡姆·邦舍因，珍妮·佩里，鲍里斯·莱万特，
申请(专利权)人：应用材料以色列公司，
类型：发明
国别省市：
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