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提供了系统和方法，其包括针对将在半导体样品上制造的多个不同覆盖目标中的每个给定覆盖目标，所述给定覆盖目标包括多个堆叠的半导体层，获得所述给定覆盖目标的设计图像；将所述设计图像馈送到经训练的机器学习模型，以模拟将由电子束查验系统获取的所述给定...
该专利属于应用材料以色列公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料以色列公司授权不得商用。

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