【技术实现步骤摘要】
本申请涉及光刻胶水滴角检测，具体涉及基于特征提取的增粘单元水滴角检测方法。
技术介绍
1、通常情况下，部分晶圆表面是亲水的，这不利于光刻胶的涂覆。在这种情况下先对晶圆表面做增粘处理，这是在匀胶显影机的增粘单元中进行的。在真空腔中装入晶圆后封闭腔体，晶圆在腔体中加热到一定的温度，同时通过喷嘴将六甲基二硅胺（hmds）气相引入或直接喷淋在晶圆表面，使其直接由亲水性变成疏水性，便于光刻胶的涂覆。
2、在增粘单元中光刻胶与晶圆衬底薄膜的水滴角是指覆盖光刻胶区域的光刻胶与晶圆衬底薄膜之间的夹角，是衡量光刻胶涂覆质量的方式。通常情况下在晶圆板上进行光刻时光刻胶为立体状态，因此在单个光刻胶区域周围有许多个水滴角大小，此外光刻胶的高度都是um或nm级，由于刻度单位非常小，容易受到环境噪声或观测噪声的干扰，导致无法对增粘单元中光刻胶的水滴角进行准确检测，在传统lof异常检测算法，通常设定固定的k值无法对光刻胶区域的水滴角情况进行准确分析，无法精确提取噪声数据，造成对异常光刻胶检测不准确。
技术实现思路>
1、为了解决本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.基于特征提取的增粘单元水滴角检测方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：
2.如权利要求1所述的基于特征提取的增粘单元水滴角检测方法，其特征在于，所述水滴角评估系数包括：
3.如权利要求2所述的基于特征提取的增粘单元水滴角检测方法，其特征在于，所述深度拟合曲面及各边界像素点的拟合深度值的获取过程为：
4.如权利要求3所述的基于特征提取的增粘单元水滴角检测方法，其特征在于，所述构建各光刻胶区域的区域水滴角判定序列包括：
5.如权利要求1所述的基于特征提取的增粘单元水滴角检测方法，其特征在于，所述深度均极偏差比的确定方法为
6....
【技术特征摘要】
1.基于特征提取的增粘单元水滴角检测方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：
2.如权利要求1所述的基于特征提取的增粘单元水滴角检测方法，其特征在于，所述水滴角评估系数包括：
3.如权利要求2所述的基于特征提取的增粘单元水滴角检测方法，其特征在于，所述深度拟合曲面及各边界像素点的拟合深度值的获取过程为：
4.如权利要求3所述的基于特征提取的增粘单元水滴角检测方法，其特征在于，所述构建各光刻胶区域的区域水滴角判定序列包括：
5.如权利要求1所述的基于特征提取的增粘单元水滴角检测方法，其特征在于，...
【专利技术属性】
技术研发人员：薛平，鲍灿，王良栋，
申请(专利权)人：江苏雷博微电子设备有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。